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Arc Electron Flow의 특성 및 생성 방법

기사 출처:Zhenhua 진공
읽기:10
게시됨:23-05-31

1.아크광 전자흐름의 특성

아크 방전에 의해 생성된 아크 플라즈마에서 전자 흐름, 이온 흐름 및 고에너지 중성 원자의 밀도는 글로우 방전보다 훨씬 높습니다.코팅 공간에는 더 많은 가스 이온과 금속 이온이 이온화되고 여기된 고에너지 원자와 다양한 활성 그룹이 있어 코팅 공정의 가열, 세척 및 코팅 단계에서 중요한 역할을 합니다.아크 전자 흐름의 작용 형태는 이온 빔과 달리 모두 "빔"으로 수렴하는 것이 아니라 대부분 발산 상태이므로 아크 전자 흐름이라고 합니다.아크 전자는 양극쪽으로 흐르기 때문에 아크 전자 흐름은 아크 전원 공급 장치의 양극이 연결된 곳이면 어디든지 흐르며 양극은 공작물, 보조 양극, 도가니 등이 될 수 있습니다.

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2.아크 전자 흐름을 발생시키는 방법

(1) 가스 소스는 아크 전자 흐름을 생성합니다. 중공 음극 아크 방전 및 핫 와이어 아크 방전의 아크 전류는 약 200A에 도달할 수 있으며 아크 전압은 50-70V입니다.

(2) 고체 소스는 아크 전자 흐름을 생성합니다. 작은 아크 소스, 원통형 아크 소스, 직사각형 평면 대형 아크 소스 등을 포함한 음극 아크 소스. 각 음극 아크 소스 방전의 아크 전류는 80-200A이며 아크 전압은 18-25V.

두 가지 유형의 아크 방전 플라즈마에서 고밀도 및 저에너지 아크 전자 흐름은 가스 및 금속 필름 원자와 강렬한 충돌 이온화를 생성하여 더 많은 가스 이온, 금속 이온 및 다양한 고 에너지 활성 원자 및 그룹을 얻습니다. 필름 층 이온의 전반적인 활동.

–이 기사는 광동 Zhenhua,진공 코팅기 제조업체


게시 시간: 2023년 5월 31일