化学蒸着（CVD）技術は、加熱、プラズマ増強、光アシストなどの手段を使用して、常圧または低圧下での化学反応により気体物質を基板表面に固体膜を生成する膜形成技術です。
一般的に、反応物が気体で生成物の1つが固体である反応はCVD反応と呼ばれます。CVD反応によって生成されるコーティングには多くの種類があり、特に半導体プロセスにおいてはその用途が広く用いられています。例えば、半導体分野では、原材料の精製、高品質の半導体単結晶膜の製造、電子デバイスから集積回路に至るまで、多結晶および非晶質膜の成長はすべてCVD技術と関連しています。さらに、材料の表面処理は人々に好まれています。例えば、機械、反応器、航空宇宙、医療、化学機器など、様々な材料は、それぞれの異なる要件に応じて、CVD成膜法によって耐食性、耐熱性、耐摩耗性、表面強化などの機能性コーティングを生成することができます。
—— この記事は、広東振華社（メーカー）が発行したものです。真空コーティング装置
投稿日時: 2023年3月4日