Ang Chemical Vapor Deposition (CVD) nga teknolohiya usa ka teknolohiya sa pagporma og pelikula nga naggamit og pagpainit, plasma enhancement, photo-assisted ug uban pang paagi aron ang mga gas nga substansiya makahimo og solidong pelikula sa ibabaw sa substrate pinaagi sa kemikal nga reaksyon ubos sa normal o ubos nga presyur.
Kasagaran, ang reaksyon diin ang reactant usa ka gas ug ang usa sa mga produkto usa ka solido gitawag nga CVD reaction. Daghang klase sa coatings nga giandam pinaagi sa CVD reaction, labi na sa proseso sa semiconductor. Pananglitan, sa natad sa semiconductor, ang pagpino sa hilaw nga materyales, ang pag-andam sa taas nga kalidad nga semiconductor single crystal films, ug ang pagtubo sa polycrystalline ug amorphous films, gikan sa mga electronic device hangtod sa integrated circuits, tanan nalambigit sa teknolohiya sa CVD. Dugang pa, ang surface treatment sa mga materyales gipalabi sa mga tawo. Pananglitan, ang lainlaing mga materyales sama sa makinarya, reactor, aerospace, medikal ug kemikal nga kagamitan mahimong magamit sa pag-andam sa functional coatings nga adunay resistensya sa corrosion, resistensya sa kainit, resistensya sa pagkaguba ug pagpalig-on sa nawong pinaagi sa pamaagi sa pagporma sa CVD film sumala sa ilang lainlaing mga kinahanglanon.
—— Kini nga artikulo gipatik sa Guangdong Zhenhua, usa ka tiggama sakagamitan sa pag-vacuum coating
Oras sa pag-post: Mar-04-2023