Chemische dampafzetting (CVD) is een filmvormingstechnologie die gebruikmaakt van verwarming, plasmaversterking, foto-ondersteunde technieken en andere methoden om gasvormige stoffen door middel van een chemische reactie onder normale of lage druk om te zetten in vaste films op het substraatoppervlak.
Over het algemeen wordt een reactie waarbij de reactant een gas is en een van de producten een vaste stof, een CVD-reactie genoemd. Er bestaan veel soorten coatings die met behulp van de CVD-reactie worden vervaardigd, met name in de halfgeleiderindustrie. Zo is CVD-technologie bijvoorbeeld relevant voor de raffinage van grondstoffen, de productie van hoogwaardige halfgeleider-eenkristalfilms en de groei van polykristallijne en amorfe films, van elektronische apparaten tot geïntegreerde schakelingen. Daarnaast is de oppervlaktebehandeling van materialen zeer gewild. Zo kunnen diverse materialen, zoals machines, reactoren, ruimtevaart-, medische en chemische apparatuur, worden voorzien van functionele coatings met corrosiebestendigheid, hittebestendigheid, slijtvastheid en oppervlakteversterking door middel van CVD-filmvorming, afhankelijk van hun specifieke eisen.
— Dit artikel is gepubliceerd door Guangdong Zhenhua, een fabrikant vanvacuümcoatingapparatuur
Geplaatst op: 04-03-2023