La tecnología de deposición química en fase vapor (CVD, por sus siglas en inglés) es una tecnología de formación de películas que utiliza calentamiento, mejora por plasma, asistencia fotoquímica y otros medios para hacer que las sustancias gaseosas produzcan películas sólidas en la superficie del sustrato mediante una reacción química a presión normal o baja.
Generalmente, la reacción en la que el reactivo es un gas y uno de los productos es un sólido se denomina reacción CVD. Existen muchos tipos de recubrimientos preparados mediante la reacción CVD, especialmente en el proceso de semiconductores. Por ejemplo, en el campo de los semiconductores, el refinado de materias primas, la preparación de películas monocristalinas de semiconductores de alta calidad y el crecimiento de películas policristalinas y amorfas, desde dispositivos electrónicos hasta circuitos integrados, están relacionados con la tecnología CVD. Además, el tratamiento superficial de materiales es muy apreciado. Por ejemplo, diversos materiales como maquinaria, reactores, equipos aeroespaciales, médicos y químicos pueden utilizarse para preparar recubrimientos funcionales con resistencia a la corrosión, al calor, al desgaste y al fortalecimiento superficial mediante el método de formación de películas CVD, según sus diferentes requisitos.
— Este artículo es publicado por Guangdong Zhenhua, un fabricante deequipos de recubrimiento al vacío
Fecha de publicación: 4 de marzo de 2023