A tecnologia de Deposição Química de Vapor (CVD) é uma tecnologia de formação de filmes que utiliza aquecimento, intensificação por plasma, fotoassistamento e outros meios para fazer com que substâncias gasosas produzam filmes sólidos na superfície do substrato por meio de reação química sob pressão normal ou baixa.
De modo geral, a reação em que o reagente é um gás e um dos produtos é um sólido é chamada de reação CVD. Existem muitos tipos de revestimentos preparados por reação CVD, especialmente em processos semicondutores. Por exemplo, no campo dos semicondutores, o refino de matérias-primas, a preparação de filmes monocristalinos semicondutores de alta qualidade e o crescimento de filmes policristalinos e amorfos, desde dispositivos eletrônicos até circuitos integrados, estão todos relacionados à tecnologia CVD. Além disso, o tratamento de superfície de materiais é bastante utilizado. Por exemplo, diversos materiais, como máquinas, reatores, equipamentos aeroespaciais, médicos e químicos, podem ser revestidos com materiais que apresentam resistência à corrosão, resistência ao calor, resistência ao desgaste e reforço superficial pelo método de deposição de filmes por CVD, de acordo com suas diferentes necessidades.
—— Este artigo foi publicado pela Guangdong Zhenhua, uma fabricante deequipamento de revestimento a vácuo
Data da publicação: 04/03/2023