కెమికల్ వేపర్ డిపోజిషన్ (CVD) టెక్నాలజీ అనేది ఒక ఫిల్మ్-ఫార్మింగ్ టెక్నాలజీ. ఇది సాధారణ లేదా తక్కువ పీడనం వద్ద రసాయన చర్య ద్వారా సబ్స్ట్రేట్ ఉపరితలంపై వాయు పదార్థాలను ఘన ఫిల్మ్లుగా మార్చడానికి వేడి చేయడం, ప్లాస్మా పెంపు, ఫోటో-సహాయక మరియు ఇతర మార్గాలను ఉపయోగిస్తుంది.
సాధారణంగా, చర్యలో పాల్గొనే పదార్థం వాయువుగా ఉండి, ఉత్పత్తులలో ఒకటి ఘనపదార్థంగా ఉండే చర్యను CVD చర్య అంటారు. ముఖ్యంగా సెమీకండక్టర్ ప్రక్రియలో, CVD చర్య ద్వారా అనేక రకాల పూతలను తయారు చేస్తారు. ఉదాహరణకు, సెమీకండక్టర్ రంగంలో, ముడి పదార్థాల శుద్ధి, అధిక-నాణ్యత గల సెమీకండక్టర్ సింగిల్ క్రిస్టల్ ఫిల్మ్ల తయారీ, మరియు ఎలక్ట్రానిక్ పరికరాల నుండి ఇంటిగ్రేటెడ్ సర్క్యూట్ల వరకు పాలీక్రిస్టలైన్ మరియు అమార్ఫస్ ఫిల్మ్ల వృద్ధి వంటివన్నీ CVD సాంకేతికతకు సంబంధించినవే. అదనంగా, పదార్థాల ఉపరితల శుద్ధికి ప్రజలు ప్రాధాన్యత ఇస్తున్నారు. ఉదాహరణకు, యంత్రాలు, రియాక్టర్, ఏరోస్పేస్, వైద్య మరియు రసాయన పరికరాలు వంటి వివిధ రకాల పదార్థాల విభిన్న అవసరాలకు అనుగుణంగా, CVD ఫిల్మ్ ఫార్మింగ్ పద్ధతి ద్వారా తుప్పు నిరోధకత, ఉష్ణ నిరోధకత, అరుగుదల నిరోధకత మరియు ఉపరితల బలోపేతం వంటి కార్యాత్మక పూతలను తయారు చేయవచ్చు.
ఈ వ్యాసం గ్వాంగ్డాంగ్ జెన్హువా అనే తయారీదారుచే ప్రచురించబడింది.వాక్యూమ్ కోటింగ్ పరికరాలు
పోస్ట్ చేసిన సమయం: మార్చి-04-2023