రసాయన ఆవిరి నిక్షేపణ (CVD) సాంకేతికత అనేది ఫిల్మ్-ఫార్మింగ్ టెక్నాలజీ, ఇది వేడి చేయడం, ప్లాస్మా మెరుగుదల, ఫోటో-సహాయక మరియు ఇతర మార్గాలను ఉపయోగించి సాధారణ లేదా అల్ప పీడనం కింద రసాయన ప్రతిచర్య ద్వారా ఉపరితల ఉపరితలంపై ఘన చిత్రాలను ఉత్పత్తి చేయడానికి వాయు పదార్థాలను చేస్తుంది.
సాధారణంగా, రియాక్టెంట్ వాయువు మరియు ఉత్పత్తులలో ఒకటి ఘనమైన ప్రతిచర్యను CVD ప్రతిచర్య అంటారు.CVD ప్రతిచర్య ద్వారా తయారు చేయబడిన అనేక రకాల పూతలు ఉన్నాయి, ముఖ్యంగా సెమీకండక్టర్ ప్రక్రియలో.ఉదాహరణకు, సెమీకండక్టర్ ఫీల్డ్‌లో, ముడి పదార్థాల శుద్ధి, అధిక-నాణ్యత సెమీకండక్టర్ సింగిల్ క్రిస్టల్ ఫిల్మ్‌ల తయారీ మరియు ఎలక్ట్రానిక్ పరికరాల నుండి ఇంటిగ్రేటెడ్ సర్క్యూట్‌ల వరకు పాలీక్రిస్టలైన్ మరియు అమోర్ఫస్ ఫిల్మ్‌ల పెరుగుదల అన్నీ CVD టెక్నాలజీకి సంబంధించినవి.అదనంగా, పదార్థాల ఉపరితల చికిత్స ప్రజలచే అనుకూలంగా ఉంటుంది.ఉదాహరణకు, మెషినరీ, రియాక్టర్, ఏరోస్పేస్, మెడికల్ మరియు కెమికల్ ఎక్విప్‌మెంట్ వంటి వివిధ పదార్థాలను వాటి అవసరాలకు అనుగుణంగా CVD ఫిల్మ్‌ను రూపొందించే పద్ధతి ద్వారా తుప్పు నిరోధకత, వేడి నిరోధకత, దుస్తులు నిరోధకత మరియు ఉపరితల బలపరిచేటటువంటి ఫంక్షనల్ పూతలను సిద్ధం చేయడానికి ఉపయోగించవచ్చు.
—— ఈ కథనాన్ని గ్వాంగ్‌డాంగ్ జెన్‌హువా, ఒక తయారీదారు ప్రచురించారువాక్యూమ్ పూత పరికరాలు
పోస్ట్ సమయం: మార్చి-04-2023