Химик парны чүпләү (CVD) технологиясе - җылыту, плазманы көчәйтү, фото ярдәмендә һәм газлы матдәләр гадәти яки түбән басым астында химик реакция аша субстрат өслегендә каты пленкалар җитештерү өчен кино формалаштыру технологиясе.
Гадәттә, реактор газ һәм продуктларның берсе каты булган реакция CVD реакциясе дип атала.CVD реакциясе белән әзерләнгән бик күп төрләр бар, аеруча ярымүткәргеч процессында.Мәсәлән, ярымүткәргеч кырында чималны эшкәртү, югары сыйфатлы ярымүткәргеч бер кристалл фильмнар әзерләү, һәм поликристалл һәм аморф фильмнарның үсеше, электрон җайланмалардан интеграль схемаларга кадәр, барысы да CVD технологиясе белән бәйле.Моннан тыш, материалларны өстән эшкәртү кешеләргә ошый.Мәсәлән, коррозиягә каршы тору, җылылыкка каршы тору, киемгә каршы тору һәм CVD фильм формалаштыру ысулы белән өслекне ныгыту өчен техника, реактор, аэрокосмос, медицина һәм химия җиһазлары кебек төрле материаллар кулланылырга мөмкин.
—— Бу мәкалә җитештерүче Гуандун Чжэнхуа тарафыннан бастырылганвакуум каплау җиһазлары
Пост вакыты: март-04-2023