Химик пар утырту (ХПК) технологиясе - җылыту, плазманы көчәйтү, фотоярдәм һәм башка ысулларны кулланып, газсыман матдәләрнең нормаль яки түбән басым астында химик реакция аша субстрат өслегендә каты пленкалар барлыкка китерү өчен пленка формалаштыру технологиясе.
Гомумән алганда, реагент газ, ә продуктларның берсе каты матдә булган реакция CVD реакциясе дип атала. CVD реакциясе белән әзерләнгән күп төрле каплаулар бар, бигрәк тә ярымүткәргеч процессында. Мәсәлән, ярымүткәргеч өлкәсендә чималны эшкәртү, югары сыйфатлы ярымүткәргеч монокристалл пленкалар әзерләү, электрон җайланмалардан алып интеграль схемаларга кадәр поликристалл һәм аморф пленкалар үстерү - болар барысы да CVD технологиясе белән бәйле. Моннан тыш, материалларны өслек белән эшкәртү кешеләр тарафыннан популярлаша. Мәсәлән, төрле материаллар, мәсәлән, машиналар, реакторлар, аэрокосмик, медицина һәм химик җиһазлар, коррозиягә чыдам, җылылыкка чыдам, тузуга чыдам һәм өслекне ныгытучы функциональ каплаулар әзерләү өчен төрле таләпләргә туры китереп CVD пленка формалаштыру ысулы белән кулланылырга мөмкин.
—— Бу мәкалә Гуандун Чжэньхуа җитештерүчесе тарафыннан бастырылганвакуум каплау җиһазлары
Бастырып чыгару вакыты: 2023 елның 4 марты