Die chemische Gasphasenabscheidung (CVD) ist eine Filmbildungstechnologie, die Erhitzung, Plasmaverstärkung, fotoassistierte und andere Mittel nutzt, um gasförmige Substanzen durch chemische Reaktion unter normalem oder niedrigem Druck zu festen Filmen auf der Substratoberfläche zu bringen.
Im Allgemeinen bezeichnet man eine Reaktion, bei der der Reaktant ein Gas und eines der Produkte ein Feststoff ist, als CVD-Reaktion. Es gibt zahlreiche Beschichtungsarten, die mittels CVD-Reaktion hergestellt werden, insbesondere in der Halbleiterindustrie. So spielen beispielsweise in der Halbleiterindustrie die Raffination von Rohstoffen, die Herstellung hochwertiger Halbleiter-Einkristallfilme sowie das Wachstum polykristalliner und amorpher Schichten – von elektronischen Bauelementen bis hin zu integrierten Schaltungen – eine wichtige Rolle der CVD-Technologie. Auch die Oberflächenbehandlung von Materialien ist von großem Interesse. So können beispielsweise verschiedene Materialien wie Maschinen, Reaktoren, Anlagen der Luft- und Raumfahrt, Medizin- und Chemieanlagen durch CVD-Filmbildung mit funktionalen Beschichtungen versehen werden, die Korrosionsbeständigkeit, Hitzebeständigkeit, Verschleißfestigkeit und Oberflächenverstärkung bieten und somit den jeweiligen Anforderungen gerecht werden.
— Dieser Artikel wird von Guangdong Zhenhua, einem Hersteller vonVakuumbeschichtungsanlage
Veröffentlichungsdatum: 04.03.2023