Công nghệ lắng đọng hơi hóa học (CVD) là một công nghệ tạo màng sử dụng gia nhiệt, tăng cường plasma, hỗ trợ quang học và các phương pháp khác để biến các chất khí thành màng rắn trên bề mặt chất nền thông qua phản ứng hóa học dưới áp suất bình thường hoặc thấp.
Nhìn chung, phản ứng trong đó chất phản ứng là chất khí và một trong các sản phẩm là chất rắn được gọi là phản ứng CVD. Có rất nhiều loại lớp phủ được điều chế bằng phản ứng CVD, đặc biệt là trong quy trình bán dẫn. Ví dụ, trong lĩnh vực bán dẫn, việc tinh chế nguyên liệu thô, điều chế màng đơn tinh thể bán dẫn chất lượng cao, và sự phát triển của màng đa tinh thể và vô định hình, từ các thiết bị điện tử đến mạch tích hợp, đều liên quan đến công nghệ CVD. Ngoài ra, xử lý bề mặt vật liệu cũng được ưa chuộng. Ví dụ, nhiều loại vật liệu như máy móc, lò phản ứng, hàng không vũ trụ, thiết bị y tế và hóa chất có thể được sử dụng để chế tạo các lớp phủ chức năng có khả năng chống ăn mòn, chịu nhiệt, chống mài mòn và tăng cường độ bền bề mặt bằng phương pháp tạo màng CVD theo các yêu cầu khác nhau.
—— Bài viết này được đăng tải bởi Guangdong Zhenhua, một nhà sản xuất củathiết bị phủ chân không
Thời gian đăng bài: 04/03/2023