Teknologi pelapisan vakum adalah teknologi yang melapisi material film tipis pada permukaan material substrat di bawah lingkungan vakum, yang banyak digunakan dalam bidang elektronik, optik, pengemasan, dekorasi, dan bidang lainnya. Peralatan pelapisan vakum dapat dibagi menjadi beberapa jenis berikut:
1. Peralatan pelapisan penguapan termal: ini adalah metode pelapisan vakum paling tradisional, dengan memanaskan bahan film tipis dalam wadah penguapan, bahan tersebut diuapkan dan diendapkan ke permukaan bahan substrat.
2. Peralatan pelapisan sputtering: menggunakan ion berenergi tinggi untuk menghantam permukaan material target, atom-atom material target disputtering dan diendapkan ke material substrat. Sputtering magnetron mampu memperoleh daya rekat film yang lebih seragam dan kuat, cocok untuk produksi massal.
3. Peralatan pengendapan berkas ion: Berkas ion digunakan untuk mengendapkan bahan film tipis ke substrat. Metode ini dapat memperoleh film yang sangat seragam dan cocok untuk keperluan dengan persyaratan presisi tinggi, tetapi biaya peralatannya tinggi.
4. Peralatan Chemical Vapour Deposition (CVD): Membentuk lapisan tipis pada permukaan material substrat melalui reaksi kimia. Metode ini dapat menyiapkan lapisan berkualitas tinggi dari berbagai jenis, tetapi peralatannya rumit dan mahal.
5. Peralatan Molecular Beam Epitaxy (MBE): Ini adalah metode untuk mengendalikan pertumbuhan lapisan tipis pada tingkat atom dan terutama digunakan untuk persiapan lapisan ultra-tipis dan struktur multilapis untuk aplikasi semikonduktor dan nanoteknologi.
6. Peralatan Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition (PECVD): Ini adalah teknik yang menggunakan plasma untuk meningkatkan pengendapan lapisan tipis melalui reaksi kimia, yang memungkinkan pembentukan lapisan tipis secara cepat pada suhu yang lebih rendah.
7. Perangkat Pulsed Laser Deposition (PLD): Perangkat ini menggunakan pulsa laser berenergi tinggi untuk menyerang target, menguapkan material dari permukaan target dan menyimpannya ke substrat, dan cocok untuk menumbuhkan film oksida kompleks berkualitas tinggi.
Masing-masing perangkat ini memiliki karakteristik tersendiri dalam desain dan pengoperasiannya serta cocok untuk berbagai aplikasi industri dan bidang penelitian. Seiring dengan perkembangan teknologi, teknologi pelapisan vakum juga semakin maju, dan peralatan pelapisan vakum baru juga bermunculan.
–Artikel ini dirilis olehmesin pelapis vakumprodusen Guangdong Zhenhua
Waktu posting: 12-Jun-2024