1. Teknologi pengendapan berbantuan sinar ion ditandai dengan adhesi yang kuat antara membran dan substrat, lapisan membran sangat kuat. Eksperimen menunjukkan bahwa: pengendapan berbantuan sinar ion dari adhesi meningkat beberapa kali lipat hingga ratusan kali lipat dibandingkan dengan pengendapan uap termal, alasannya terutama karena pemboman ion pada permukaan efek pembersihan, sehingga antarmuka dasar membran membentuk struktur antarmuka gradien, atau lapisan transisi hibrida, serta mengurangi tekanan membran.
2. Deposisi berbantuan sinar ion dapat meningkatkan sifat mekanis film, memperpanjang umur lelah, sangat cocok untuk persiapan oksida, karbida, BN kubik, TiB2, dan pelapis seperti berlian. Misalnya, pada baja tahan panas 1Cr18Ni9Ti pada penggunaan teknologi deposisi berbantuan sinar ion untuk menumbuhkan film Si3N4 200nm, tidak hanya dapat menghambat munculnya retak lelah pada permukaan material, tetapi juga secara signifikan mengurangi laju difusi retak lelah, untuk memperpanjang umurnya memiliki peran yang baik.
3. Deposisi berbantuan sinar ion dapat mengubah sifat tegangan film dan perubahan struktur kristalnya. Misalnya, persiapan film Cr dengan pemboman Xe+ atau Ar+ 11,5 keV pada permukaan substrat, ditemukan bahwa penyesuaian suhu substrat, energi ion pemboman, ion dan atom untuk mencapai rasio parameter, dapat membuat tegangan dari tegangan tarik menjadi tegangan tekan, struktur kristal film juga akan menghasilkan perubahan. Di bawah rasio kedatangan ion-ke-atom tertentu, deposisi berbantuan sinar ion memiliki orientasi selektif yang lebih baik daripada lapisan membran yang diendapkan oleh deposisi uap termal.
4. Deposisi berbantuan sinar ion dapat meningkatkan ketahanan terhadap korosi dan ketahanan terhadap oksidasi membran. Karena kepadatan deposisi berbantuan sinar ion pada lapisan film, peningkatan struktur antarmuka dasar film atau pembentukan keadaan amorf yang disebabkan oleh hilangnya batas butir antara partikel, yang kondusif untuk peningkatan ketahanan terhadap korosi material dan menahan oksidasi suhu tinggi.
5. Deposisi dengan bantuan sinar ion dapat mengubah sifat elektromagnetik film dan meningkatkan kinerja film tipis optik.
6. Deposisi berbantuan ion memungkinkan penyesuaian yang tepat dan independen terhadap parameter yang terkait dengan deposisi atom dan implantasi ion, dan memungkinkan pembuatan lapisan berturut-turut dengan ketebalan beberapa mikrometer dengan komposisi konsisten pada energi pemboman rendah, sehingga berbagai lapisan tipis dapat tumbuh pada suhu ruangan, menghindari efek buruk pada material atau komponen presisi yang mungkin disebabkan oleh perlakuan pada suhu tinggi.
–Artikel ini dirilis olehprodusen mesin pelapis vakumGuangdong Zhenhua
Waktu posting: 24-Jan-2024