Tha sputtering magnetron falamh gu sònraichte freagarrach airson còmhdach tasgaidh ath-ghnìomhach. Gu dearbh, faodaidh am pròiseas seo filmichean tana de stuthan ocsaid, carbide, agus nitride sam bith a thasgadh. A bharrachd air an sin, tha am pròiseas cuideachd gu sònraichte freagarrach airson tasgadh structaran film ioma-fhilleadh, a’ gabhail a-steach dealbhadh optigeach, filmichean dathte, còmhdach a tha an aghaidh caitheamh, nano-laminates, còmhdach superlattice, filmichean inslitheachaidh, msaa. Cho tràth ri 1970, chaidh eisimpleirean tasgadh film optigeach àrd-inbhe a leasachadh airson measgachadh de stuthan sreath film optigeach. Tha na stuthan sin a’ toirt a-steach stuthan giùlain follaiseach, leth-chonnsachaidhean, polymers, ocsaidean, carbides, agus nitrides, agus thathas a’ cleachdadh fluorides ann am pròiseasan leithid còmhdach falmhachaidh.
Is e am prìomh bhuannachd a tha aig a’ phròiseas sputtering magnetron a bhith a’ cleachdadh phròiseasan còmhdach ath-ghnìomhach no neo-ath-ghnìomhach gus sreathan de na stuthan sin a thasgadh agus smachd math a chumail air co-dhèanamh an t-sreath, tighead an fhilm, cunbhalachd tighead an fhilm agus feartan meacanaigeach an t-sreath. Tha na feartan a leanas aig a’ phròiseas.
1、Ìre tasgadh mòr. Air sgàth cleachdadh electrodan magnetron aig astar luath, gheibhear sruth mòr ian, a leasaicheas an ìre tasgadh agus an ìre sputtering den phròiseas còtaidh seo gu h-èifeachdach. An coimeas ri pròiseasan còtaidh sputtering eile, tha comas àrd agus toradh àrd aig sputtering magnetron, agus tha e air a chleachdadh gu farsaing ann an diofar chinneasachadh gnìomhachais.
2、Èifeachdas cumhachd àrd. Mar as trice bidh targaid sputtering magnetron a’ taghadh bholtaids taobh a-staigh an raoin 200V-1000V, mar as trice 600V, leis gu bheil am bholtaids 600V dìreach taobh a-staigh an raoin èifeachdais cumhachd as àirde.
3. Lùth spùtadh ìosal. Tha bholtadh targaid a’ mhaighnetron air a chur an sàs ìosal, agus tha an raon magnetach a’ cuingealachadh a’ phlasma faisg air a’ chatod, a chuireas casg air mìrean le barrachd lùth bho bhith a’ cur air bhog air an t-substrate.
4、Teòthachd ìosal an t-substrate. Faodar an anod a chleachdadh gus na dealanan a thèid a chruthachadh rè an sgaoilidh a stiùireadh air falbh, gun fheum air taic an t-substrate gus a chrìochnachadh, agus faodaidh seo lùghdachadh èifeachdach a dhèanamh air bomadh dealanach an t-substrate. Mar sin, tha teòthachd an t-substrate ìosal, rud a tha glè fhreagarrach airson cuid de substrates plastaig nach eil glè dhìonach an aghaidh còmhdach teòthachd àrd.
5, Chan eil gràbhaladh uachdar targaid sputtering magnetron co-ionnan. Tha gràbhaladh uachdar targaid sputtering magnetron air adhbhrachadh le neo-chothromachd raon magnetach an targaid. Tha suidheachadh ìre gràbhaladh an targaid nas motha, agus mar sin tha ìre cleachdaidh èifeachdach an targaid ìosal (dìreach ìre cleachdaidh 20-30%). Mar sin, gus cleachdadh an targaid a leasachadh, feumar sgaoileadh an raoin magnetach atharrachadh le dòighean sònraichte, no faodaidh cleachdadh magnets a tha a’ gluasad anns a’ chatod cleachdadh an targaid a leasachadh cuideachd.
6、Targaid cho-dhèanta. ’S urrainn dhi film còmhdaich targaid cho-dhèanta a dhèanamh. An-dràsta, tha cleachdadh pròiseas sputtering targaid magnetron co-dhèanta air a bhith soirbheachail ann a bhith a’ còmhdach film co-dhèanta Ta-Ti, (Tb-Dy)-Fe agus Gb-Co. Tha ceithir seòrsaichean ann an structar targaid cho-dhèanta, fa leth, is iad sin an targaid chruinn in-leaghte, an targaid ceàrnagach in-leaghte, an targaid bheag ceàrnagach in-leaghte agus an targaid roinn in-leaghte. Tha cleachdadh structar targaid roinn in-leaghte nas fheàrr.
7. Raon farsaing de thagraidhean. Faodaidh pròiseas sputtering magnetron mòran eileamaidean a thasgadh, is iad na feadhainn cumanta: Ag, Au, C, Co, Cu, Fe, Ge, Mo, Nb, Ni, Os, Cr, Pd, Pt, Re, Rh, Si, Ta, Ti, Zr, SiO, AlO, GaAs, U, W, SnO, msaa.
’S e sputtering magnetron aon de na pròiseasan còmhdaich as fharsainge a thathas a’ cleachdadh gus filmichean àrd-inbhe fhaighinn. Le catod ùr, tha cleachdadh targaid àrd agus ìre tasgadh àrd aige. Tha pròiseas còmhdaich sputtering magnetron falamh Guangdong Zhenhua Technology a-nis air a chleachdadh gu farsaing ann an còmhdach fo-stratan farsaing. Chan e a-mhàin gu bheil am pròiseas air a chleachdadh airson tasgadh film aon-fhilleadh, ach cuideachd airson còmhdach film ioma-fhilleadh, a bharrachd air an sin, tha e cuideachd air a chleachdadh sa phròiseas rolla gu rolla airson film pacaidh, film optigeach, lamination agus còmhdach film eile.
Àm puist: 07 Samhain, 2022