CVD-coatingtechnology hat de folgjende skaaimerken:
1. De prosesoperaasje fan CVD-apparatuer is relatyf ienfâldich en fleksibel, en it kin ienkele of gearstalde films en legearingsfilms mei ferskillende proporsjes tariede;
2. CVD-coating hat in breed skala oan tapassingen, en kin brûkt wurde om ferskate metaal- of metaalfilmcoatings te meitsjen;
3. Hege produksjeeffisjinsje troch ôfsettingssnelheden fariearjend fan in pear mikron oant hûnderten mikron per minuut;
4. Yn ferliking mei de PVD-metoade hat CVD bettere diffraksjeprestaasjes en is tige geskikt foar it beklaaien fan substraten mei komplekse foarmen, lykas groeven, beklaaide gatten en sels bline gatstrukturen. De coating kin yn in film mei goede kompaktheid platearre wurde. Troch de hege temperatuer tidens it filmfoarmingsproses en de sterke adhesion op 'e filmsubstraatynterface is de filmlaach tige stevich.
5. De skea feroarsake troch strieling is relatyf leech en kin yntegrearre wurde mei MOS-yntegreare sirkwyprosessen.
——Dit artikel is publisearre troch Guangdong Zhenhua, infabrikant fan fakuümcoatingmasines
Pleatsingstiid: 29 maart 2023