1. Ionisuihkulla avustetun laskeutumisen tekniikalle on ominaista vahva tarttuvuus kalvon ja substraatin välillä, mikä tekee kalvokerroksesta erittäin vahvan. Kokeet osoittavat, että ionisuihkulla avustetun laskeutumisen tarttuvuus on moninkertaistunut satoihin kertoihin verrattuna lämpöhöyrylaskeuman tarttuvuuteen. Tämä johtuu pääasiassa ionipommituksen pinnan puhdistusvaikutuksesta. Näin kalvon pohjapintaan muodostuu gradienttirajapintarakenne eli hybridi-siirtymäkerros, mikä vähentää kalvon rasitusta.
2. Ionisuihkukasvatus voi parantaa kalvon mekaanisia ominaisuuksia ja pidentää väsymiskestoa. Se soveltuu erittäin hyvin oksidien, karbidien, kuutiollisen BN:n, TiB2:n ja timantin kaltaisten pinnoitteiden valmistukseen. Esimerkiksi 1Cr18Ni9Ti-lämmönkestävässä teräksessä ionisuihkukasvatusteknologialla kasvatettu 200 nm:n Si3N4-kalvo ei ainoastaan estä väsymishalkeamien syntymistä materiaalin pinnalle, vaan myös vähentää merkittävästi väsymishalkeamien leviämisnopeutta, mikä pidentää kalvon käyttöikää.
3. Ionisuihkulla avustettu pinnoitus voi muuttaa kalvon jännitysluonnetta ja sen kiderakennetta. Esimerkiksi Cr-kalvon valmistuksessa, jossa substraatin pintaa pommitetaan 11,5 keV Xe+- tai Ar+-ioneilla, havaittiin, että substraatin lämpötilan, pommituksen ionienergian, ionien ja atomien säätäminen parametrien suhteen saavuttamiseksi voi muuttaa jännityksen vetojännityksestä puristusjännitykseen, ja kalvon kiteinen rakenne muuttuu myös. Tietyllä ionien ja atomien saapumissuhteella ionisuihkulla avustetulla pinnoituksella on parempi selektiivinen orientaatio kuin lämpöhöyrypinnoituksella kerrostetulla kalvokerroksella.
4. Ionisuihkulla avustettu pinnoitus voi parantaa kalvon korroosionkestävyyttä ja hapettumisenkestävyyttä. Ionisuihkulla avustetun kalvokerroksen tiheyden ansiosta kalvon pohjarajapinta paranee tai hiukkasten välisten raerajojen katoaminen johtaa amorfisen tilan muodostumiseen, mikä parantaa materiaalin korroosionkestävyyttä ja vastustaa hapettumista korkeissa lämpötiloissa.
5. Ionisuihkulla avustettu laskeutus voi muuttaa kalvon sähkömagneettisia ominaisuuksia ja parantaa optisten ohutkalvojen suorituskykyä.
6. Ioni-avusteinen laskeuma mahdollistaa atomilaskeumaan ja ioni-istutukseen liittyvien parametrien tarkan ja itsenäisen säätämisen ja mahdollistaa muutaman mikrometrin paksuisten pinnoitteiden peräkkäisen muodostamisen koostumukseltaan tasaisella tavalla alhaisilla pommitusenergoilla, jolloin erilaisia ohutkalvoja voidaan kasvattaa huoneenlämmössä välttäen materiaaleihin tai tarkkuusosiin kohdistuvat haitalliset vaikutukset, joita niiden käsittely korkeissa lämpötiloissa voi aiheuttaa.
–Tämä artikkeli on julkaistutyhjiöpinnoituskoneiden valmistajaGuangdong Zhenhua
Julkaisun aika: 24. tammikuuta 2024