به شرکت فناوری گوانگدونگ ژنهوا خوش آمدید.
بنر_تکی

طبقه بندی تجهیزات پوشش خلاء چیست؟

منبع مقاله: ژنهوا وکیوم
خوانده شده:10
منتشر شده:24-06-12

فناوری پوشش‌دهی در خلاء، فناوری‌ای است که مواد لایه نازک را در محیط خلاء روی سطح مواد زیرلایه رسوب می‌دهد و به طور گسترده در الکترونیک، اپتیک، بسته‌بندی، دکوراسیون و سایر زمینه‌ها مورد استفاده قرار می‌گیرد. تجهیزات پوشش‌دهی در خلاء را می‌توان عمدتاً به انواع زیر تقسیم کرد:

۱. تجهیزات پوشش‌دهی تبخیر حرارتی: این سنتی‌ترین روش پوشش‌دهی در خلاء است که با گرم کردن ماده لایه نازک در محفظه تبخیر، ماده تبخیر شده و روی سطح ماده زیرلایه رسوب می‌کند.
۲. تجهیزات پوشش‌دهی کندوپاش: با استفاده از یون‌های پرانرژی برای برخورد به سطح ماده هدف، اتم‌های ماده هدف کندوپاش شده و روی ماده زیرلایه رسوب می‌کنند. کندوپاش مگنترون قادر به دستیابی به چسبندگی یکنواخت‌تر و قوی‌تر فیلم است که برای تولید انبوه مناسب است.
۳. تجهیزات رسوب‌دهی با پرتو یونی: از پرتوهای یونی برای رسوب‌دهی مواد لایه نازک روی زیرلایه استفاده می‌شود. این روش می‌تواند لایه‌های بسیار یکنواختی به دست آورد و برای مواردی که نیاز به دقت بالا است مناسب است، اما هزینه تجهیزات بالاست.
۴. تجهیزات رسوب بخار شیمیایی (CVD): از طریق یک واکنش شیمیایی، لایه‌های نازکی را روی سطح ماده زیرلایه تشکیل می‌دهد. این روش می‌تواند لایه‌های با کیفیت بالا و چند گونه‌ای تهیه کند، اما تجهیزات آن پیچیده و پرهزینه است.
۵. تجهیزات اپیتکسی پرتو مولکولی (MBE): این روشی برای کنترل رشد لایه‌های نازک در سطح اتمی است و عمدتاً برای تهیه لایه‌های فوق نازک و ساختارهای چندلایه برای کاربردهای نیمه‌هادی و فناوری نانو استفاده می‌شود.
۶. تجهیزات رسوب‌گذاری شیمیایی بخار با پلاسما (PECVD): این تکنیکی است که از پلاسما برای افزایش رسوب لایه‌های نازک توسط یک واکنش شیمیایی استفاده می‌کند و امکان تشکیل سریع لایه‌های نازک را در دماهای پایین‌تر فراهم می‌کند.
۷. دستگاه‌های رسوب‌گذاری لیزری پالسی (PLD): این دستگاه‌ها از پالس‌های لیزری پرانرژی برای برخورد به هدف، تبخیر ماده از سطح هدف و رسوب آن روی یک زیرلایه استفاده می‌کنند و برای رشد لایه‌های اکسیدی پیچیده و با کیفیت بالا مناسب هستند.
هر یک از این دستگاه‌ها ویژگی‌های خاص خود را در طراحی و عملکرد دارند و برای کاربردهای صنعتی و زمینه‌های تحقیقاتی مختلف مناسب هستند. با توسعه فناوری، فناوری پوشش‌دهی در خلاء نیز در حال پیشرفت است و تجهیزات جدید پوشش‌دهی در خلاء نیز در حال ظهور هستند.

–این مقاله توسط منتشر شده استدستگاه پوشش خلاءسازنده گوانگدونگ ژنهوا


زمان ارسال: ۱۲ ژوئن ۲۰۲۴