CVD estaldura teknologiak ezaugarri hauek ditu:
1. CVD ekipamenduaren prozesuaren funtzionamendua nahiko sinplea eta malgua da, eta proportzio desberdinetako film bakunak edo konposatuak eta aleaziozko filmak prestatu ditzake;
2. CVD estaldurak aplikazio sorta zabala du, eta hainbat metal edo metalezko film estaldura prestatzeko erabil daiteke;
3. Ekoizpen-eraginkortasun handia, mikroi gutxi batzuetatik minutuko ehunka mikroirainoko deposizio-tasak direla eta;
4. PVD metodoarekin alderatuta, CVD-k difrakzio-errendimendu hobea du eta oso egokia da forma konplexuko substratuak estaltzeko, hala nola ildaskak, zulo estaliak eta baita zulo itsuak ere. Estaldura trinkotasun oneko film batean xaflatu daiteke. Filma eratzeko prozesuan tenperatura altua eta film-substratuaren interfazean atxikimendu sendoa direla eta, film-geruza oso sendoa da.
5. Erradiazioak eragindako kaltea nahiko txikia da eta MOS zirkuitu integratu prozesuekin integra daiteke.
——Artikulu hau Guangdong Zhenhua-k argitaratu du,hutsean estaltzeko makina fabrikatzailea
Argitaratze data: 2023ko martxoaren 29a