La tecnología de recubrimiento al vacío consiste en depositar materiales de película delgada sobre la superficie de sustratos en un entorno de vacío. Se utiliza ampliamente en electrónica, óptica, embalaje, decoración y otros campos. Los equipos de recubrimiento al vacío se dividen principalmente en los siguientes tipos:
1. Equipo de recubrimiento por evaporación térmica: este es el método de recubrimiento al vacío más tradicional, al calentar el material de película delgada en el bote de evaporación, el material se evapora y se deposita sobre la superficie del material del sustrato.
2. Equipo de recubrimiento por pulverización catódica: Mediante iones de alta energía que impactan la superficie del material objetivo, los átomos se pulverizan y se depositan sobre el sustrato. La pulverización catódica con magnetrón permite obtener una adhesión más uniforme y resistente de la película, ideal para la producción en masa.
3. Equipo de deposición por haz de iones: Los haces de iones se utilizan para depositar materiales de película delgada sobre el sustrato. Este método permite obtener películas muy uniformes y es adecuado para aplicaciones con requisitos de alta precisión, pero el coste del equipo es elevado.
4. Equipo de deposición química en fase de vapor (CVD): Forma películas delgadas sobre la superficie del sustrato mediante una reacción química. Este método permite preparar películas multiespecie de alta calidad, pero el equipo es complejo y costoso.
5. Equipo de epitaxia de haz molecular (MBE): es un método de control del crecimiento de películas delgadas a nivel atómico y se utiliza principalmente para la preparación de capas ultrafinas y estructuras multicapa para aplicaciones de semiconductores y nanotecnología.
6. Equipo de deposición química en fase de vapor mejorada con plasma (PECVD): es una técnica que utiliza plasma para mejorar la deposición de películas delgadas mediante una reacción química, lo que permite la formación rápida de películas delgadas a temperaturas más bajas.
7. Dispositivos de deposición láser pulsada (PLD): utilizan pulsos láser de alta energía para golpear un objetivo, evaporar material de la superficie del objetivo y depositarlo sobre un sustrato, y son adecuados para desarrollar películas de óxido complejas y de alta calidad.
Cada uno de estos dispositivos tiene características propias de diseño y funcionamiento, y es adecuado para diferentes aplicaciones industriales y áreas de investigación. Con el desarrollo tecnológico, la tecnología de recubrimiento al vacío también avanza y surgen nuevos equipos de recubrimiento al vacío.
–Este artículo es publicado pormáquina de recubrimiento al vacíofabricante Guangdong Zhenhua
Hora de publicación: 12 de junio de 2024