Procesos para mejorar la resistencia mecánica de la capa de película

Las propiedades mecánicas de la capa de membrana se ven afectadas por la adhesión, la tensión, la densidad de agregación, etc. A partir de la relación entre el material de la capa de membrana y los factores del proceso, se puede ver que si queremos mejorar la resistencia mecánica de la capa de membrana, debemos centrarnos en los siguientes parámetros del proceso:

(1) Nivel de vacío. El efecto del vacío sobre el rendimiento de la película es evidente. La mayoría de los indicadores de rendimiento de la capa de película dependen en gran medida del nivel de vacío. Generalmente, a medida que aumenta el nivel de vacío, aumenta la densidad de agregación de la película, su firmeza, su estructura y su composición química se purifican, pero al mismo tiempo, la tensión también aumenta.

(2) Tasa de deposición. Mejorar la tasa de deposición no solo puede utilizarse para mejorar la tasa de evaporación (es decir, aumentar la temperatura de la fuente de evaporación) sino también para aumentar el área de la fuente. Sin embargo, este método presenta desventajas: la tensión de la membrana es excesiva y el gas formador de película se descompone fácilmente. Por lo tanto, a veces es más ventajoso aumentar el área de la fuente de evaporación que mejorar la temperatura.

(3) Temperatura del sustrato. Aumentar la temperatura del sustrato favorece la adsorción de las moléculas de gas restantes en su superficie, lo que aumenta la fuerza de unión entre las moléculas depositadas y promueve la conversión de adsorción física en química, mejorando la interacción entre moléculas y fortaleciendo la estructura de la membrana. Por ejemplo, en el caso de la membrana de Mg, el calentamiento del sustrato a 250-300 °C puede reducir la tensión interna, mejorar la densidad de agregación y aumentar la dureza de la membrana. En el caso de la membrana multicapa de Zr0₃-Si0₂ preparada a 120-150 °C, su resistencia mecánica aumenta considerablemente, pero una temperatura demasiado alta puede deteriorarla.

(4) Bombardeo iónico. El bombardeo iónico influye en la formación de superficies altamente cohesivas, la rugosidad superficial, la oxidación y la densidad de agregación. El bombardeo antes del recubrimiento puede limpiar la superficie y aumentar la adhesión; el bombardeo después del recubrimiento puede mejorar la densidad de agregación de la película, etc., aumentando así la resistencia mecánica y la dureza.

(5) Limpieza del sustrato. Un método de limpieza inadecuado o deficiente del sustrato puede provocar impurezas o agentes de limpieza residuales en el sustrato, lo que puede provocar contaminación y afectar la cohesión y la adhesión del recubrimiento, lo que afecta las propiedades estructurales y el espesor óptico de la primera capa, además de facilitar el desprendimiento de la película, alterando así sus características.

–Este artículo es publicado porfabricante de máquinas de recubrimiento al vacíoGuangdong Zhenhua