La tecnología de deposición asistida por haz de iones se caracteriza por una fuerte adhesión entre la membrana y el sustrato, lo que permite una capa de membrana muy resistente. Experimentos demuestran que la adhesión de la deposición asistida por haz de iones es varias veces superior a la de la deposición térmica de vapor. Esto se debe principalmente al efecto de limpieza del bombardeo de iones sobre la superficie, lo que permite que la interfaz de la base de la membrana forme una estructura interfacial de gradiente, o capa de transición híbrida, y reduzca la tensión de la membrana.
2. La deposición asistida por haz de iones mejora las propiedades mecánicas de la película y prolonga la vida útil por fatiga, lo que resulta muy adecuado para la preparación de óxidos, carburos, BN cúbico, TiB₂ y recubrimientos tipo diamante. Por ejemplo, en el acero resistente al calor 1Cr₁₄Ni₄Ti, la tecnología de deposición asistida por haz de iones para el crecimiento de una película de Si₃₄₄ de 200 nm no solo inhibe la aparición de grietas por fatiga en la superficie del material, sino que también reduce significativamente la velocidad de difusión de las grietas por fatiga, lo que prolonga su vida útil.
3. La deposición asistida por haz de iones puede modificar la naturaleza de la tensión de la película y su estructura cristalina. Por ejemplo, al preparar una película de Cr mediante bombardeo de 11,5 keV con Xe+ o Ar+ sobre la superficie del sustrato, se observó que el ajuste de la temperatura del sustrato, la energía iónica del bombardeo, los iones y los átomos para alcanzar la relación de parámetros puede modificar la tensión, de tracción a compresión, lo que también modifica la estructura cristalina de la película. Con una cierta relación de llegada de iones a átomos, la deposición asistida por haz de iones presenta una mejor orientación selectiva que la capa de membrana depositada mediante deposición térmica de vapor.
4. La deposición asistida por haz de iones puede mejorar la resistencia a la corrosión y a la oxidación de la membrana. Debido a la densidad de la deposición asistida por haz de iones de la capa de película, se mejora la estructura de la interfaz de la base de la película o se forma un estado amorfo debido a la desaparición de los límites de grano entre las partículas, lo que favorece la mejora de la resistencia a la corrosión del material y la resistencia a la oxidación a altas temperaturas.
5. La deposición asistida por haz de iones puede cambiar las propiedades electromagnéticas de la película y mejorar el rendimiento de las películas delgadas ópticas.
6. La deposición asistida por iones permite un ajuste preciso e independiente de los parámetros relacionados con la deposición atómica y la implantación de iones, y permite la generación sucesiva de recubrimientos de unos pocos micrómetros con composición consistente a bajas energías de bombardeo, de modo que se pueden cultivar diversas películas delgadas a temperatura ambiente, evitando los efectos adversos sobre los materiales o piezas de precisión que puede provocar su tratamiento a temperaturas elevadas.
–Este artículo es publicado porfabricante de máquinas de recubrimiento al vacíoGuangdong Zhenhua
Hora de publicación: 24 de enero de 2024