GX2700

Die Anlage nutzt die Elektronenstrahlverdampfungstechnologie. Elektronen werden von der Kathodenelektrode emittiert und zu einem definierten Strahlstrom fokussiert. Dieser wird durch die Potentialdifferenz zwischen Kathode und Tiegel beschleunigt und schmilzt das Beschichtungsmaterial, um es zu verdampfen. Das Verfahren zeichnet sich durch eine hohe Energiedichte aus und kann Beschichtungsmaterialien mit einem Schmelzpunkt von über 3000 °C verdampfen. Der Film weist eine hohe Reinheit und eine hohe thermische Effizienz auf.
Die Anlage ist mit einer Elektronenstrahlverdampfungsquelle, einer Ionenquelle, einem Schichtdickenüberwachungssystem, einer Schichtdickenkorrekturstruktur und einem stabilen Werkstückrotationssystem ausgestattet. Durch die ionenquellenunterstützte Beschichtung wird die Schichtdichte erhöht, der Brechungsindex stabilisiert und die durch Feuchtigkeit bedingte Wellenlängenverschiebung vermieden. Das vollautomatische Echtzeit-Schichtdickenüberwachungssystem gewährleistet die Wiederholbarkeit und Stabilität des Prozesses. Die integrierte Selbstschmelzfunktion reduziert die Abhängigkeit von den Fähigkeiten des Bedieners.
Die Anlage eignet sich für verschiedene Oxid- und Metallbeschichtungsmaterialien und kann mit mehrschichtigen optischen Präzisionsfilmen beschichtet werden, wie z. B. AR-Folien, Langwellen-, Kurzwellen-, Aufhellungs-, AS/AF-Folien, IRCUT-Folien, Farbfilmsystemen, Gradientenfilmsystemen usw. Sie findet breite Anwendung in AR-Brillen, optischen Linsen, Kameras, Filtern, der Halbleiterindustrie usw.