GX2700

El equipo emplea la tecnología de evaporación por haz de electrones. Los electrones se emiten desde el filamento del cátodo y se enfocan en un haz con una corriente específica. La diferencia de potencial entre el cátodo y el crisol acelera el proceso, fundiendo y evaporando el material de recubrimiento. Este proceso se caracteriza por su alta densidad energética y permite evaporar materiales de recubrimiento con un punto de fusión superior a 3000 °C. La película resultante presenta una alta pureza y una elevada eficiencia térmica.
El equipo está equipado con una fuente de evaporación por haz de electrones, una fuente de iones, un sistema de monitorización del espesor de la película, una estructura de corrección del espesor y un sistema de rotación estable de la pieza de trabajo. Mediante el recubrimiento asistido por la fuente de iones, se incrementa la compacidad de la película, se estabiliza el índice de refracción y se evita el desplazamiento de la longitud de onda debido a la humedad. El sistema de monitorización automática en tiempo real del espesor de la película garantiza la repetibilidad y la estabilidad del proceso. Además, cuenta con una función de autofusión para reducir la dependencia de la habilidad del operario.
El equipo es aplicable a diversos óxidos y materiales de recubrimiento metálico, y puede recubrirse con películas ópticas de precisión multicapa, como películas antirreflectantes (AR), de paso de onda larga, de paso de onda corta, de brillo, AS/AF, IRCUT, sistemas de películas de color, sistemas de películas de gradiente, etc. Se ha utilizado ampliamente en gafas AR, lentes ópticas, cámaras, filtros, la industria de semiconductores, etc.