PRODUKTBESCHREIBUNG

Vorteile der Ausrüstung

Die Anlage nutzt die Elektronenstrahlverdampfungstechnologie. Dabei werden Elektronen von der Kathodenelektrode emittiert und zu einem spezifischen Strahlstrom fokussiert. Der Strahl wird anschließend durch die Potenzialdifferenz zwischen Kathode und Tiegel beschleunigt, wodurch das Beschichtungsmaterial schmilzt und verdampft. Dieses Verfahren zeichnet sich durch eine hohe Energiedichte aus und ermöglicht die Verdampfung von Materialien mit Schmelzpunkten über 3000 °C. Die resultierenden Schichten weisen eine hohe Reinheit und thermische Effizienz auf.

Die Anlage ist mit einer Elektronenstrahlverdampfungsquelle, einer Ionenquelle, einem Schichtdickenüberwachungssystem, einer Schichtdickenkorrekturstruktur und einem stabilen, schirmförmigen Werkstückrotationssystem ausgestattet. Die Ionenquelle unterstützt den Beschichtungsprozess, indem sie die Dichte der Schichten erhöht, den Brechungsindex stabilisiert und feuchtigkeitsbedingte Wellenlängenverschiebungen verhindert. Das vollautomatische Echtzeit-Schichtdickenüberwachungssystem gewährleistet die Wiederholbarkeit und Stabilität des Prozesses. Zusätzlich verfügt die Anlage über eine Selbstzuführungsfunktion, wodurch die Abhängigkeit von den Fähigkeiten des Bedieners reduziert wird.

Diese Anlage eignet sich für verschiedene Oxid- und Metallbeschichtungsmaterialien. Sie kann mehrlagige optische Präzisionsfilme abscheiden, darunter Antireflexbeschichtungen (AR), Langpassfilter, Kurzpassfilter, Helligkeitsverstärkungsfolien, Anti-Fingerabdruck-Beschichtungen (AS/AF), IRCUT-Filter, Farbfiltersysteme und Verlaufsfolien. Sie findet breite Anwendung in Bereichen wie Handy-Schutzglasabdeckungen, Kameraobjektiven, Brillengläsern, optischen Linsen, Schwimmbrillen, Skibrillen, PET-Folien/Verbundplatten, PMMA (Polymethylmethacrylat), photochromen Magnetfolien, Fälschungsschutz und Kosmetika.