GX2700

В оборудовании используется технология электронно-лучевого испарения. Электроны испускаются из катодной нити и фокусируются в определенный пучок тока, который ускоряется потенциалом между катодом и тиглем, расплавляя и испаряя покрывающий материал. Это оборудование обладает высокой плотностью энергии и позволяет испарять покрывающий материал с температурой плавления более 3000 ℃. Пленка имеет высокую чистоту и высокую тепловую эффективность.
Оборудование оснащено источником электронно-лучевого испарения, ионным источником, системой контроля толщины пленки, структурой коррекции толщины пленки и системой стабильного вращения заготовки в форме зонтика. Благодаря нанесению покрытия с помощью ионного источника повышается плотность пленки, стабилизируется показатель преломления и предотвращается смещение длины волны из-за влаги. Полностью автоматическая система контроля толщины пленки в реальном времени обеспечивает повторяемость и стабильность процесса. Она оснащена функцией самоплавления, что снижает зависимость от квалификации оператора.
Данное оборудование применимо к различным оксидным и металлическим покрытиям и позволяет наносить многослойные прецизионные оптические пленки, такие как антиотражающие пленки, пленки для длинноволнового и коротковолнового пропускания, осветляющие пленки, пленки AS/AF, IRCUT, цветные пленочные системы, градиентные пленочные системы и т. д. Оно широко используется в производстве антиотражающих очков, оптических линз, фотоаппаратов, оптических линз, фильтров, полупроводниковой промышленности и т. д.