GX2700

Оборудването използва технологията за изпаряване на електронен лъч.Електроните се излъчват от катодната нишка и се фокусират в определен ток на лъча, който се ускорява от потенциала между катода и тигела за стопяване и изпаряване на покриващия материал.Той има характеристиките на висока енергийна плътност и може да изпари покриващия материал с точка на топене над 3000 ℃.Филмът има висока чистота и висока термична ефективност.
Оборудването е оборудвано с източник на изпарение на електронен лъч, източник на йони, система за наблюдение на дебелината на филма, структура за коригиране на дебелината на филма и стабилна система за въртене на детайла с чадър.Чрез покритие с помощта на йонен източник, компактността на филма се увеличава, индексът на пречупване се стабилизира и се избягва феноменът на изместване на дължината на вълната поради влага.Напълно автоматичната система за мониторинг на дебелината на филма в реално време може да гарантира повторяемостта и стабилността на процеса.Той е оборудван с функция за саморазтопяване, за да се намали зависимостта от уменията на оператора.
Оборудването е приложимо за различни оксиди и материали за метално покритие и може да бъде покрито с многослойни прецизни оптични филми, като AR филм, дълга вълна, къса вълна, избелващ филм, AS / AF филм, IRCUT, цветна филмова система , градиентна филмова система и др. Използва се широко в AR очила, оптични лещи, камери, оптични лещи, филтри, полупроводникови индустрии и др.