Das Gerät nutzt die Elektronenstrahlverdampfungstechnologie. Elektronen werden vom Kathodenfaden emittiert und zu einem bestimmten Strahlstrom fokussiert. Dieser wird durch das Potenzial zwischen Kathode und Tiegel beschleunigt, wodurch das Beschichtungsmaterial schmilzt und verdampft. Es zeichnet sich durch eine hohe Energiedichte aus und kann Beschichtungsmaterial mit einem Schmelzpunkt von über 3000 °C verdampfen. Der Film weist eine hohe Reinheit und einen hohen thermischen Wirkungsgrad auf.
Die Anlage ist mit einer Elektronenstrahlverdampfungsquelle, einer Ionenquelle, einem Schichtdickenüberwachungssystem, einer Schichtdickenkorrekturstruktur und einem stabilen Schirm-Werkstückrotationssystem ausgestattet. Durch die ionenquellenunterstützte Beschichtung wird die Filmdichte erhöht, der Brechungsindex stabilisiert und das Phänomen der Wellenlängenverschiebung durch Feuchtigkeit vermieden. Das vollautomatische Echtzeit-Schichtdickenüberwachungssystem gewährleistet die Wiederholbarkeit und Stabilität des Prozesses. Die Selbstschmelzfunktion reduziert die Abhängigkeit vom Können des Bedieners.
Die Ausrüstung ist für verschiedene Oxide und Metallbeschichtungsmaterialien geeignet und kann mit mehrschichtigen optischen Präzisionsfilmen beschichtet werden, wie etwa AR-Film, Langwellenpass, Kurzwellenpass, Aufhellungsfilm, AS/AF-Film, IRCUT, Farbfilmsystem, Gradientenfilmsystem usw. Sie wird häufig in AR-Brillen, optischen Linsen, Kameras, optischen Linsen, Filtern, in der Halbleiterindustrie usw. verwendet.