CVD-belægningsteknologi har følgende egenskaber:
1. Processen med CVD-udstyr er relativt enkel og fleksibel, og det kan fremstille enkelt- eller kompositfilm og legeringsfilm med forskellige proportioner;
2. CVD-belægning har en bred vifte af anvendelser og kan bruges til at fremstille forskellige metal- eller metalfilmbelægninger;
3. Høj produktionseffektivitet på grund af aflejringshastigheder fra et par mikrometer til hundredvis af mikrometer i minuttet;
4. Sammenlignet med PVD-metoden har CVD bedre diffraktionsevne og er meget velegnet til belægning af substrater med komplekse former, såsom riller, belagte huller og endda blinde hulstrukturer. Belægningen kan belægges til en film med god kompakthed. På grund af den høje temperatur under filmdannelsesprocessen og den stærke vedhæftning på filmsubstratgrænsefladen er filmlaget meget fast.
5. Skaden forårsaget af stråling er relativt lav og kan integreres med MOS-integrerede kredsløbsprocesser.
——Denne artikel er udgivet af Guangdong Zhenhua, enproducent af vakuumbelægningsmaskiner
Opslagstidspunkt: 29. marts 2023