Modi di prucessu per migliurà a forza meccanica di u stratu di film

E proprietà meccaniche di u stratu di membrana sò influenzate da l'adesione, u stress, a densità di aggregazione, ecc. Da a relazione trà u materiale di u stratu di membrana è i fattori di prucessu, si pò vede chì sè vulemu migliurà a resistenza meccanica di u stratu di membrana, duvemu fucalizza nantu à i seguenti parametri di prucessu:

(1) livellu di vacuum. L'influenza di u vacuum nantu à e prestazioni di u film hè assai evidente. A maiò parte di l'indicatori di prestazione di u stratu di film dipendenu assai da u livellu di vacuum. Di solitu, quandu u gradu di vacuum aumenta, a densità di aggregazione di u film aumenta, a fermezza aumenta, a struttura di u film hè migliurata, a cumpusizione chimica diventa pura, ma à u listessu tempu aumenta ancu a tensione.

(2) Velocità di deposizione. Migliurà a velocità di deposizione ùn solu pò esse aduprata per migliurà a velocità di evaporazione, vale à dì, aumentà l'approcciu di a temperatura di a fonte di evaporazione, pò ancu esse aduprata per aumentà l'approcciu di l'area di a fonte di evaporazione per ottene, ma l'usu di a fonte di evaporazione per aumentà a temperatura di l'approcciu hà i so svantaghji: fà chì a tensione di u stratu di membrana sia troppu grande; u gasu filmforme hè faciule da decompone. Cusì qualchì volta aumentà l'area di a fonte di evaporazione hè più favurevule chè migliurà a temperatura di a fonte di evaporazione.

(3) temperatura di u substratu. Aumentà a temperatura di u substratu hè favurevule à l'adsorbimentu nantu à a superficia di u substratu di e molecule di gas restanti per esclude, aumentendu u substratu è a forza di ligame trà e molecule depositate: à u listessu tempu prumove a cunversione di l'adsorbimentu fisicu in adsorbimentu chimicu, aumentendu l'interazione trà e molecule, in modu chì a struttura di u stratu di membrana sia stretta. Per esempiu, Mg, membrana, riscaldamentu di u substratu à 250 ~ 300 ℃ pò riduce u stress internu, migliurà a densità di aggregazione, aumentà a durezza di u stratu di membrana: riscaldamentu di u substratu à 120 ~ 150 ℃ preparatu Zr03-Si02, membrana multistratu, a so resistenza meccanica aumenta assai, ma una temperatura di u substratu troppu alta causerà u deterioramentu di u stratu di membrana.

(4) Bumbardamentu ionicu. U bumbardamentu ionicu hà un effettu nant'à a furmazione di superfici altamente coesive, a rugosità di a superficia, l'ossidazione è a densità d'aggregazione. U bumbardamentu prima di u rivestimentu pò pulisce a superficia è aumentà l'adesione; u bumbardamentu dopu u rivestimentu pò migliurà a densità d'aggregazione di u stratu di film, ecc., aumentendu cusì a resistenza meccanica è a durezza.

(5) Pulizia di u substratu. U metudu di pulizia di u substratu ùn hè micca adattatu o micca pulitu, l'impurità residuale o l'agente di pulizia in u substratu, allora causanu una nova contaminazione, in u rivestimentu di diverse cundizioni di cuesione è adesione, affettendu e proprietà strutturali è u spessore otticu di u primu stratu, ma ancu face chì u stratu di film sia faciule da staccà da u substratu, cambiendu cusì e caratteristiche di u stratu di film.

–Questu articulu hè statu publicatu dafabricatore di macchine di rivestimentu à vuotoGuangdong Zhenhua