1. A tecnulugia di deposizione assistita da fasciu ionicu hè carattarizata da una forte adesione trà a membrana è u sustratu, u stratu di membrana hè assai forte. L'esperimenti mostranu chì: a deposizione assistita da fasciu ionicu di l'adesione hè aumentata parechje volte à centinaie di volte cà l'adesione di a deposizione di vapore termicu, a ragione hè principalmente per via di u bumbardamentu ionicu nantu à a superficia di l'effettu di pulizia, in modu chì l'interfaccia di basa di a membrana forma una struttura interfacciale di gradiente, o stratu di transizione ibrida, è ancu per riduce u stress di a membrana.
2. A deposizione assistita da fasciu ionicu pò migliurà e proprietà meccaniche di u film, allargà a vita di fatica, assai adatta per a preparazione di ossidi, carburi, BN cubicu, TiB2 è rivestimenti simili à diamanti. Per esempiu, in l'acciaio resistente à u calore 1Cr18Ni9Ti, l'usu di a tecnulugia di deposizione assistita da fasciu ionicu per fà cresce un film di Si3N4 di 200 nm ùn solu pò inibisce l'emergenza di crepe di fatica nantu à a superficia di u materiale, ma ancu riduce significativamente a velocità di diffusione di crepe di fatica, allargà a so vita hà un bon rolu.
3. A deposizione assistita da fasciu di ioni pò cambià a natura di a tensione di u filmu è i so cambiamenti di struttura cristallina. Per esempiu, a preparazione di u filmu Cr cù un bombardamentu di 11,5 keV Xe+ o Ar+ di a superficia di u sustratu, hà trovu chì l'aghjustamentu di a temperatura di u sustratu, l'energia ionica di u bombardamentu, l'ioni è l'atomi per ghjunghje à u rapportu di i parametri, pò fà chì a tensione passi da a tensione di trazione à a tensione di compressione, a struttura cristallina di u filmu pruducerà ancu cambiamenti. Sottu un certu rapportu d'arrivu ione-atomu, a deposizione assistita da fasciu di ioni hà una megliu orientazione selettiva chè u stratu di membrana depositatu per deposizione di vapore termicu.
4. A deposizione assistita da un fasciu di ioni pò migliurà a resistenza à a corrosione è a resistenza à l'ossidazione di a membrana. A causa di a densità di a deposizione assistita da un fasciu di ioni di u stratu di film, u miglioramentu di a struttura di l'interfaccia di basa di u film o a furmazione di un statu amorfu causatu da a sparizione di i limiti di i grani trà e particelle, ciò chì hè favurevule à u miglioramentu di a resistenza à a corrosione di u materiale è à l'ossidazione à alta temperatura.
5. A deposizione assistita da fasciu ionicu pò cambià e proprietà elettromagnetiche di u film è migliurà e prestazioni di i film sottili ottici.
6. A deposizione assistita da ioni permette un aghjustamentu precisu è indipendente di i parametri ligati à a deposizione atomica è à l'impiantu ionicu, è permette a generazione successiva di rivestimenti di pochi micrometri cù una cumpusizione consistente à basse energie di bombardamentu, in modu chì diversi film sottili possinu esse cultivati à temperatura ambiente, evitendu l'effetti avversi nantu à i materiali o e parti di precisione chì ponu esse causati da u so trattamentu à temperature elevate.
–Questu articulu hè statu publicatu dafabricatore di macchine di rivestimentu à vuotoGuangdong Zhenhua
Data di publicazione: 24 di ghjennaghju di u 2024