A tecnulugia di rivestimentu CVD hà e seguenti caratteristiche:
1. U funziunamentu di u prucessu di l'equipaggiu CVD hè relativamente simplice è flessibile, è pò preparà filmi singuli o cumposti è filmi di lega cù diverse proporzioni;
2. U rivestimentu CVD hà una larga gamma di applicazioni, è pò esse adupratu per preparà diversi rivestimenti di metalli o film metallichi;
3. Alta efficienza di pruduzzione per via di tassi di deposizione chì varianu da pochi micron à centinaie di micron per minutu;
4. In paragone cù u metudu PVD, u CVD hà una megliu prestazione di diffrazione è hè assai adattatu per u rivestimentu di sustrati cù forme cumplesse, cum'è scanalature, fori rivestiti, è ancu strutture di fori ciechi. U rivestimentu pò esse placcatu in un film cù una bona cumpattezza. A causa di l'alta temperatura durante u prucessu di furmazione di u film, è a forte adesione nantu à l'interfaccia di u sustratu di u film, u stratu di film hè assai fermu.
5. U dannu causatu da a radiazione hè relativamente bassu è pò esse integratu cù i prucessi di circuiti integrati MOS.
Questu articulu hè statu publicatu da Guangdong Zhenhua, unafabricatore di macchine di rivestimentu à vuoto
Data di publicazione: 29 di marzu di u 2023