Механичните свойства на мембранния слой се влияят от адхезията, напрежението, плътността на агрегация и др. От връзката между материала на мембранния слой и факторите на процеса може да се види, че ако искаме да подобрим механичната якост на мембранния слой, трябва да се съсредоточим върху следните параметри на процеса:
(1) Ниво на вакуум. Влиянието на вакуума върху характеристиките на филма е много очевидно. Повечето показатели за характеристики на филмовия слой са силно зависими от нивото на вакуум. Обикновено, с увеличаване на степента на вакуум, плътността на агрегация на филма се увеличава, твърдостта се увеличава, структурата на филма се подобрява, химичният състав се пречиства, но същевременно се увеличава и напрежението.
(2) Скорост на отлагане. Подобряването на скоростта на отлагане може не само да подобри скоростта на изпарение, т.е. да увеличи температурата на източника на изпарение, но и да увеличи площта на източника на изпарение. Използването на източник на изпарение за повишаване на температурата има своите недостатъци: напрежението в мембранния слой е твърде голямо; филмообразуващите газове се разлагат лесно. Затова понякога е по-добре да се увеличи площта на източника на изпарение, отколкото да се подобри температурата на източника на изпарение.
(3) температура на субстрата. Повишаването на температурата на субстрата благоприятства адсорбцията на останалите газови молекули върху повърхността на субстрата, като по този начин се увеличава силата на свързване между отложените молекули и субстрата. В същото време се насърчава превръщането на физическата адсорбция в химическа, засилва се взаимодействието между молекулите и структурата на мембранния слой става плътна. Например, нагряването на субстрата с Mg мембрана до 250 ~ 300 ℃ може да намали вътрешното напрежение, да подобри плътността на агрегация и да увеличи твърдостта на мембранния слой. Нагряването на субстрата до 120 ~ 150 ℃ на подготвената многослойна мембрана ZrO3-SiO2 значително увеличава механичната якост, но твърде високата температура на субстрата ще доведе до влошаване на мембранния слой.
(4) Йонно бомбардиране. Йонното бомбардиране има ефект върху образуването на силно кохезионни повърхности, грапавостта на повърхността, окислението и плътността на агрегация. Бомбардирането преди нанасяне на покритие може да почисти повърхността и да увеличи адхезията; бомбардирането след нанасяне на покритие може да подобри плътността на агрегация на филмовия слой и др., като по този начин се увеличава механичната якост и твърдост.
(5) Почистване на основата. Ако методът за почистване на основата е неподходящ или не е чист, в основата остават остатъчни примеси или почистващ препарат, което води до ново замърсяване. Различни условия на сцепление и адхезия в покритието влияят на структурните свойства и оптичната дебелина на първия слой, но също така правят филмовия слой лесно отделящ се от основата, променяйки характеристиките му.
–Тази статия е публикувана отпроизводител на машини за вакуумно покритиеГуандун Джънхуа
Време на публикуване: 04 май 2024 г.