Ni gbogbogbo, awọn aati CVD gbarale awọn iwọn otutu giga, nitorinaa a pe ni deposition kemikali ti o ni itara gbona (TCVD). O maa n lo awọn ohun ti ko ni ẹya ara ati pe a ṣe ni awọn reactors ogiri gbona ati ogiri tutu. Awọn ọna gbigbona rẹ pẹlu igbona igbohunsafẹfẹ redio (RF), igbona redio infrared, igbona resistance, ati bẹbẹ lọ.
Ifipamọ́ ooru kemikali ti o gbona ni odi
Ní gidi, ohun èlò ìtọ́jú afẹ́fẹ́ kẹ́míkà gbígbóná jẹ́ ilé ìgbóná ooru, tí a sábà máa ń fi àwọn èròjà resistive gbóná, fún ìṣẹ̀dá lẹ́ẹ̀kọ̀ọ̀kan. Yíyàwòrán ibi ìṣẹ̀dá afẹ́fẹ́ kẹ́míkà gbígbóná fún ìbòrí irinṣẹ́ ërún ni a fihàn gẹ́gẹ́ bí atẹ̀lé yìí. Ohun èlò ìtọ́jú afẹ́fẹ́ kẹ́míkà gbígbóná yìí lè bo TiN, TiC, TiCN àti àwọn fíìmù tín-tín mìíràn. A lè ṣe ohun èlò ìtọ́jú afẹ́fẹ́ náà láti tóbi tó kí ó sì gba ọ̀pọ̀lọpọ̀ èròjà, a sì lè ṣàkóso àwọn ipò náà dáadáa fún ìtọ́jú afẹ́fẹ́. Àwòrán 1 fi ohun èlò epitaxial kan hàn fún ìtọ́jú afẹ́fẹ́ silicon ti iṣẹ́ àgbékalẹ̀ ẹ̀rọ semiconductor. A gbé ohun èlò ìṣàlẹ̀ inú ilé ìgbóná náà sí ìtọ́sọ́nà inaro láti dín ìbàjẹ́ ojú ibi ìtọ́jú afẹ́fẹ́ kù nípasẹ̀ àwọn èròjà, àti láti mú kí ìṣiṣẹ́ afẹ́fẹ́ pọ̀ sí i gidigidi. Àwọn ohun èlò ìtọ́jú afẹ́fẹ́ gbígbóná fún iṣẹ́ àgbékalẹ̀ semiconductor sábà máa ń ṣiṣẹ́ ní àwọn ìfúnpá kékeré.
Àkókò ìfìwéránṣẹ́: Oṣù kọkànlá-08-2022