Fa'aputuga o le ausa kemikolo e fa'aosofia e le vevela

E masani lava ona fa'alagolago tali atu o le CVD i le vevela maualuga, o lea e ta'ua ai o le thermally excited chemical vapor deposition (TCVD). E masani ona fa'aogaina ai mea e le o ni mea ola ma e fa'atinoina i totonu o reactors vevela ma puipui malulu. O ana metotia fa'avevela e aofia ai le fa'avevela o le leitio (RF), fa'avevela o le infrared radiation, fa'avevela o le tete'e, ma isi mea fa'apena.

Fa'aputuga o le ausa kemikolo i puipui vevela
O le mea moni, o le reactor e teu ai le ausa o le vevela-puipui o se ogaumu fa'avevela, e masani ona fa'avevela i elemene tete'e, mo le gaosiga fa'afuase'i. O le ata o se nofoaga e gaosia ai le ausa o le vevela-puipui mo le ufiufiina o meafaigaluega chip o lo'o fa'aalia e pei ona taua i lalo. O lenei mea e teu ai le ausa o le vevela-puipui e mafai ona ufiufi ai le TiN, TiC, TiCN ma isi ata manifinifi. E mafai ona mamanuina le reactor ia lava le tele ona uuina lea o le tele o vaega, ma e mafai ona pulea lelei tulaga mo le teuina. O le Ata 1 o lo'o fa'aalia ai se masini epitaxial layer mo le silicon doping o le gaosiga o masini semiconductor. O le substrate i totonu o le ogaumu e tu'u i se itu fa'atulagaina e fa'aitiitia ai le fa'aleagaina o le fogaeleele e teu ai e ni fasi, ma fa'ateleina tele ai le uta o le gaosiga. O reactor vevela-puipui mo le gaosiga o semiconductor e masani ona fa'agaoioia i le mamafa maualalo.