Kazhinji maitiro eCVD anovimba nekupisa kwakanyanya, nekudaro kunonzi thermally excited chemical vapor deposition (TCVD).Iyo inowanzo shandisa inorganic precursors uye inoitwa mukupisa-madziro uye kutonhora-madziro reactor.Nzira dzayo dzinopisa dzinosanganisira redhiyo frequency (RF) kudziyisa, infrared radiation kudziyisa, kupokana kupisa, nezvimwe.
Kupisa madziro kemikari vapor deposition
Chaizvoizvo, inopisa-madziro kemikari vapor deposition reactor ivira re thermostatic, rinowanzo kupiswa nezvinhu zvinodzivirira, kuitira kugadzirwa kwepakati.Kudhirowa kweanopisa-madziro kemikari vapor deposition kugadzira nzvimbo yechip tool coating inoratidzwa sezvinotevera.Iyi inopisa-madziro kemikari vapor deposition inogona kupfeka TiN, TiC, TiCN uye mamwe mafirimu matete.Iyo reactor inogona kugadzirwa kuti yakakura zvakakwana uye inobata huwandu hukuru hwezvikamu, uye mamiriro acho anogona kudzorwa chaizvo chaizvo kuti deposition.Pic 1 inoratidza epitaxial layer mudziyo wesilicon doping yekugadzira semiconductor mudziyo.Iyo substrate muchoto inoiswa munzira yakatwasuka kuti ideredze kusvibiswa kwenzvimbo yekuisa nezvikamu, uye kuwedzera zvakanyanya kurodha kwekugadzira.Kupisa-madziro reactors ekugadzirwa kwesemiconductor anowanzo shandiswa pakumanikidzwa kwakaderera.
Nguva yekutumira: Nov-08-2022