Ìsọjí àti Ìdàgbàsókè Àwọ̀ Ẹ̀rọ Amúlétutù

Ìfọ́nká jẹ́ ìṣẹ̀lẹ̀ kan tí àwọn èròjà alágbára (tí ó sábà máa ń jẹ́ àwọn ion rere ti àwọn gáàsì) ń kọlu ojú ohun líle kan (tí a ń pè ní ohun èlò ìfọ́nká ní ìsàlẹ̀), tí ó ń mú kí àwọn átọ̀mù (tàbí àwọn mọ́lẹ́kúlù) tí ó wà lórí ojú ohun èlò ìfọ́nká sá kúrò nínú rẹ̀.

Grove ṣe àwárí ìṣẹ̀lẹ̀ yìí ní ọdún 1842 nígbà tí wọ́n gbé ohun èlò cathode lọ sí ògiri páìpù afẹ́fẹ́ nígbà ìwádìí kan láti kẹ́kọ̀ọ́ nípa ìbàjẹ́ cathodic. Ọ̀nà ìfọ́nrán yìí nínú ìfọ́nrán tín-tín tí a fi sínú substrate ni a ṣe àwárí ní ọdún 1877, nítorí lílo ọ̀nà yìí, ìfọ́nrán tín-tín ní ìbẹ̀rẹ̀ ìpele sputtering kéré, ó sì lọ́ra, ó gbọ́dọ̀ wà nínú ẹ̀rọ títẹ̀ gíga kí ó sì kọjá sínú afẹ́fẹ́ affective àti àwọn ìṣòro mìíràn, nítorí náà, ìdàgbàsókè náà lọ́ra gan-an ó sì fẹ́rẹ̀ẹ́ parẹ́, kìkì nínú àwọn irin iyebíye tí ó ń ṣe àtúnṣe kẹ́míkà, àwọn irin tí ó ń yípadà, àwọn dielectrics, àti àwọn èròjà kẹ́míkà, àwọn ohun èlò lórí àwọn ohun èlò díẹ̀. Títí di ọdún 1970, nítorí ìfarahàn ìmọ̀ ẹ̀rọ magnetron sputtering, ìbòrí sputtering ti bẹ̀rẹ̀ sí í wọ inú ìtúnpadà ojú ọ̀nà. Èyí jẹ́ nítorí pé ọ̀nà ìfọ́ magnetron sputtering lè ní ìdíwọ́ nípasẹ̀ aaye onígbà-ìdámọ̀ràn orthogonal lórí àwọn elekitironi, èyí tí ó ń mú kí ìṣeeṣe ìfọ́ electrons àti gaasi pọ̀ sí i, kìí ṣe pé ó ń dín foliteji tí a fi kún cathode kù nìkan, ó sì ń mú kí ìwọ̀n sputtering ti àwọn ions rere lórí cathode àfojúsùn sunwọ̀n sí i, ó ń dín ìṣeeṣe ìfọ́ electrons lórí substrate kù, èyí tí ó ń dín ìwọ̀n otútù rẹ̀ kù, pẹ̀lú “iyára gíga, iyára kékeré Àwọn ànímọ́ pàtàkì méjì ti “iyára gíga àti iyára kékeré”.

Títí di ọdún 1980, bó tilẹ̀ jẹ́ pé ó farahàn ní ọdún méjìlá péré, ó yàtọ̀ sí yàrá ìwádìí, ní gidi sí pápá ìṣelọ́pọ́ ibi-iṣẹ́-ajé. Pẹ̀lú ìdàgbàsókè síwájú síi ti ìmọ̀-ẹ̀rọ àti ìmọ̀-ẹ̀rọ, ní àwọn ọdún àìpẹ́ yìí nínú pápá ìṣelọ́pọ́ sputtering àti ìfihàn ìpele ion tí ó mú kí sputtering pọ̀ sí i, lílo ìpele gbígbòòrò ti orísun ion current strong powered source pẹ̀lú magnetic field modulation, àti pẹ̀lú àpapọ̀ dipole sputtering àṣà tí ó ní ipò sputtering tuntun; yóò sì jẹ́ ìfihàn agbára onígbà-ayé tí ó ń yí padà sí orísun ibi-ayé magnetron sputtering. Ìmọ̀-ẹ̀rọ AC magnetron sputtering àárín-ìgbà yìí, tí a ń pè ní twin target sputtering, kìí ṣe pé ó mú ipa “píparẹ́” ti anode kúrò nìkan, ṣùgbọ́n ó tún yanjú ìṣòro “poisosoning” ti cathode, èyí tí ó mú kí ìdúróṣinṣin ti magnetron sputtering sunwọ̀n sí i gidigidi, ó sì pèsè ìpìlẹ̀ tí ó lágbára fún ìṣelọ́pọ́ ti magnetron thin films tí ó ní compound tinrin films. Èyí ti mú ìdúróṣinṣin ti magnetron sputtering sunwọ̀n sí i gidigidi ó sì pèsè ìpìlẹ̀ tí ó lágbára fún ìṣelọ́pọ́ ti compound tinrin films tí ó ní compound tinrin films. Ní àwọn ọdún àìpẹ́ yìí, ìbòrí sputtering ti di ìmọ̀-ẹ̀rọ ìmúrasílẹ̀ fíìmù tó gbóná janjan, tó ń ṣiṣẹ́ nínú ìmọ̀-ẹ̀rọ ìbòrí afẹ́fẹ́.

–A gbé àpilẹ̀kọ yìí jáde láti ọwọ́ẹrọ fifọ ideri igbaleGuangdong Zhenhua