স্পাটারিং হলো এমন একটি ঘটনা যেখানে শক্তিপূর্ণ কণা (সাধারণত গ্যাসের ধনাত্মক আয়ন) কোনো কঠিন পদার্থের (নিচে যাকে টার্গেট ম্যাটেরিয়াল বলা হয়েছে) পৃষ্ঠে আঘাত করে, যার ফলে টার্গেট ম্যাটেরিয়ালের পৃষ্ঠে থাকা পরমাণু (বা অণু) তা থেকে বেরিয়ে যায়।
এই ঘটনাটি ১৮৪২ সালে গ্রোভ আবিষ্কার করেন, যখন ক্যাথোডিক ক্ষয় নিয়ে গবেষণা করার একটি পরীক্ষার সময় ক্যাথোড উপাদান একটি ভ্যাকুয়াম টিউবের দেয়ালে স্থানান্তরিত হয়েছিল। পাতলা ফিল্মের সাবস্ট্রেট ডিপোজিশনের এই স্পাটারিং পদ্ধতিটি ১৮৭৭ সালে আবিষ্কৃত হয়েছিল। এই পদ্ধতিতে পাতলা ফিল্ম ডিপোজিশনের প্রাথমিক পর্যায়ে স্পাটারিং-এর হার কম, ফিল্মের গতি ধীর, উচ্চ-চাপের ডিভাইস স্থাপন করা এবং কার্যকর গ্যাস প্রবেশ করানোসহ আরও নানা সমস্যার কারণে এর বিকাশ খুব ধীর ছিল এবং এটি প্রায় বিলুপ্ত হয়ে গিয়েছিল। শুধুমাত্র রাসায়নিকভাবে সক্রিয় মূল্যবান ধাতু, রিফ্র্যাক্টরি ধাতু, ডাইইলেকট্রিক এবং রাসায়নিক যৌগের মতো অল্প কিছু উপাদানের ক্ষেত্রে এর প্রয়োগ ছিল। ১৯৭০-এর দশকে ম্যাগনেট্রন স্পাটারিং প্রযুক্তির আবির্ভাবের কারণে স্পাটারিং কোটিং দ্রুত বিকশিত হয় এবং পুনরুজ্জীবনের পথে প্রবেশ করতে শুরু করে। এর কারণ হলো, ম্যাগনেট্রন স্পাটারিং পদ্ধতিতে ইলেকট্রনগুলোর উপর লম্ব তড়িৎচুম্বকীয় ক্ষেত্র প্রয়োগ করে নিয়ন্ত্রণ করা যায়, যা ইলেকট্রন ও গ্যাস অণুর সংঘর্ষের সম্ভাবনা বাড়িয়ে দেয়। এটি কেবল ক্যাথোডে প্রযুক্ত ভোল্টেজই কমায় না, বরং টার্গেট ক্যাথোডে ধনাত্মক আয়নের স্পাটারিং হারও উন্নত করে, যা সাবস্ট্রেটে ইলেকট্রনের আঘাতের সম্ভাবনা কমিয়ে দেয় এবং এর ফলে এর তাপমাত্রা হ্রাস পায়। এই পদ্ধতিতেই “উচ্চ গতি ও নিম্ন তাপমাত্রা”-এর দুটি প্রধান বৈশিষ্ট্য বিদ্যমান।
১৯৮০-এর দশকে, যদিও এর আবির্ভাব মাত্র এক দশক আগের, এটি পরীক্ষাগার থেকে বেরিয়ে এসে শিল্পায়িত গণ-উৎপাদনের ক্ষেত্রে প্রবেশ করে। বিজ্ঞান ও প্রযুক্তির আরও উন্নয়নের সাথে সাথে, সাম্প্রতিক বছরগুলিতে স্পাটারিং কোটিং-এর ক্ষেত্রে আয়ন বিম এনহ্যান্সড স্পাটারিং-এর প্রবর্তন ঘটেছে। এর ফলে শক্তিশালী কারেন্ট আয়ন উৎসের প্রশস্ত বিমকে ম্যাগনেটিক ফিল্ড মডুলেশনের সাথে একত্রিত করে প্রচলিত ডাইপোল স্পাটারিং-এর সাথে মিলিত হয়ে একটি নতুন স্পাটারিং মোড তৈরি হয়েছে; এবং ম্যাগনেট্রন স্পাটারিং টার্গেট সোর্সে মধ্যম-ফ্রিকোয়েন্সির অল্টারনেটিং কারেন্ট (AC) পাওয়ার সাপ্লাইয়ের ব্যবহার শুরু হয়েছে। এই মধ্যম-ফ্রিকোয়েন্সির AC ম্যাগনেট্রন স্পাটারিং প্রযুক্তি, যা টুইন টার্গেট স্পাটারিং নামে পরিচিত, কেবল অ্যানোডের "অদৃশ্য" প্রভাবই দূর করে না, বরং ক্যাথোডের "পয়জনিং" সমস্যারও সমাধান করে, যা ম্যাগনেট্রন স্পাটারিং-এর স্থিতিশীলতাকে ব্যাপকভাবে উন্নত করে এবং যৌগিক পাতলা ফিল্মের শিল্পায়িত উৎপাদনের জন্য একটি দৃঢ় ভিত্তি প্রদান করে। এটি ম্যাগনেট্রন স্পাটারিং-এর স্থিতিশীলতাকে ব্যাপকভাবে উন্নত করেছে এবং যৌগিক পাতলা ফিল্মের শিল্পায়িত উৎপাদনের জন্য একটি দৃঢ় ভিত্তি প্রদান করেছে। সাম্প্রতিক বছরগুলিতে, স্পাটারিং কোটিং ভ্যাকুয়াম কোটিং প্রযুক্তির ক্ষেত্রে একটি জনপ্রিয় উদীয়মান ফিল্ম প্রস্তুতি প্রযুক্তি হিসেবে সক্রিয় হয়ে উঠেছে।
–এই নিবন্ধটি প্রকাশ করেছেভ্যাকুয়াম কোটিং মেশিন প্রস্তুতকারকগুয়াংডং জেনহুয়া
পোস্ট করার সময়: ০৫-১২-২০২৩