Püskürmə, enerjili hissəciklərin (adətən qazların müsbət ionları) bərk cismin (aşağıda hədəf material adlanır) səthinə dəyməsi və hədəf materialın səthindəki atomların (və ya molekulların) oradan çıxmasına səbəb olması fenomeni.
Bu fenomen 1842-ci ildə Qrov tərəfindən katodik korroziyanı öyrənmək üçün aparılan təcrübə zamanı katod materialının vakuum borusunun divarına köçürülməsi zamanı kəşf edilmişdir. Bu püskürtmə üsulu 1877-ci ildə nazik təbəqələrin substrat çökməsində kəşf edilmişdir. Bu üsulun istifadəsi səbəbindən nazik təbəqələrin çökməsində erkən mərhələlərdə püskürtmə sürəti aşağı, təbəqə sürəti yavaş olur, yüksək təzyiqli cihazlarda quraşdırılmalı və affektiv qaza və digər bir sıra problemlərə səbəb olur, buna görə də inkişaf çox yavaş və demək olar ki, aradan qaldırılmışdır, yalnız kimyəvi cəhətdən reaktiv qiymətli metallar, odadavamlı metallar, dielektriklər və kimyəvi birləşmələr kimi az sayda tətbiq sahələrində materiallar istifadə olunurdu. 1970-ci illərə qədər maqnetron püskürtmə texnologiyasının ortaya çıxması səbəbindən püskürtmə örtüyü sürətlə inkişaf etmiş və dirçəlişə qədəm qoymağa başlamışdır. Bunun səbəbi, maqnetron püskürtmə metodunun elektronlar üzərindəki ortoqonal elektromaqnit sahəsi ilə məhdudlaşdırıla bilməsi, elektronların və qaz molekullarının toqquşma ehtimalını artırması, yalnız katoda əlavə olunan gərginliyi azaltmaqla yanaşı, hədəf katodda müsbət ionların püskürmə sürətini də yaxşılaşdıraraq, substratda elektronların bombardman edilməsi ehtimalını azaltmaqla yanaşı, onun temperaturunu da aşağı salmasıdır. Bu, "yüksək sürət, aşağı temperatur" deməkdir. "Yüksək sürət və aşağı temperatur"un iki əsas xüsusiyyəti var.
1980-ci illərə qədər, cəmi on iki il əvvəl görünsə də, laboratoriyadan, əslində sənayeləşmiş kütləvi istehsal sahəsinə daxil oldu. Elm və texnologiyanın daha da inkişafı ilə, son illərdə püskürtmə örtüyü sahəsində və ion şüası ilə gücləndirilmiş püskürtmənin tətbiqi ilə, geniş şüalı güclü cərəyan ion mənbəyinin istifadəsi maqnit sahəsi modulyasiyası ilə birləşdirildi və ənənəvi dipol püskürtmənin kombinasiyası ilə yeni püskürtmə rejimindən ibarət oldu; və maqnetron püskürtmə hədəf mənbəyinə orta tezlikli alternativ cərəyan enerji təchizatının tətbiqi olacaq. İkiqat hədəf püskürtmə adlanan bu orta tezlikli AC maqnetron püskürtmə texnologiyası yalnız anodun "yox olma" effektini aradan qaldırmaqla yanaşı, həm də katodun "zəhərlənmə" problemini həll edir ki, bu da maqnetron püskürtməsinin sabitliyini xeyli yaxşılaşdırır və mürəkkəb nazik təbəqələrin sənayeləşmiş istehsalı üçün möhkəm təməl yaradır. Bu, maqnetron püskürtmənin stabilliyini xeyli yaxşılaşdırmış və mürəkkəb nazik təbəqələrin sənaye istehsalı üçün möhkəm təməl yaratmışdır. Son illərdə püskürtmə örtüyü vakuum örtük texnologiyası sahəsində aktiv olan, populyarlaşan bir təbəqə hazırlama texnologiyasına çevrilmişdir.
–Bu məqalə dərc olunubvakuum örtük maşını istehsalçısıGuangdong Zhenhua
Yazı vaxtı: 05 Dekabr 2023