O le sputtering o se mea e tupu lea e pa'ū ai ni vaega malosi (e masani lava o ions lelei o kasa) i luga o se mea malo (o lo'o i lalo ifo o le mea o lo'o fa'amoemoeina), ma mafua ai ona sosola ese atu atoms (po'o molecules) i luga o le mea o lo'o fa'amoemoeina.
O lenei mea na tupu na maua e Grove i le 1842 ina ua siitia atu le mea cathode i le puipui o se paipa vacuum i le taimi o se faataitaiga e suesue ai le ele cathodic. O lenei metotia sputtering i le substrate deposition o ata manifinifi na maua i le 1877, ona o le faaaogaina o lenei metotia o le teuina o ata manifinifi i le amataga o le fua faatatau o le sputtering e maualalo, saoasaoa o ata tifaga e lemu, e tatau ona setiina i totonu o le masini o le mamafa maualuga ma pasia i totonu o le kesi lagona ma isi se faasologa o faafitauli, o lea e matua telegese le atinae ma toetoe lava a aveesea, na o uʻamea taua e tali atu i vailaʻau, uʻamea e le afaina, dielectrics, ma vailaʻau faʻamaʻi, meafaitino i luga o se numera itiiti o talosaga. Seia oo i le 1970s, ona o le tulaʻi mai o le tekinolosi magnetron sputtering, ua vave ona atiina ae le ufiufi sputtering, ma amata ona toe faaolaolaina le auala. Ona o le auala e mafai ona fa'atapula'aina ai le magnetron sputtering e le orthogonal electromagnetic field i luga o le electrons, e fa'ateleina ai le avanoa e feto'ai ai electrons ma molecules kesi, e le gata ina fa'aitiitia ai le voltage fa'aopoopo i le cathode, ae fa'aleleia atili ai le fua fa'atatau o le sputtering o ions lelei i luga o le cathode sini, ma fa'aitiitia ai le avanoa e fa'apapā ai electrons i luga o le substrate, ma fa'aitiitia ai lona vevela, fa'atasi ai ma le "saosaoa maualuga, vevela maualalo O uiga autu e lua o le "saosaoa maualuga ma le vevela maualalo".
E ui lava ina na o le sefululua tausaga talu ona aliali mai, ae ua tulaga ese mai le fale suʻesuʻe, ma ua matuā iloga lava i le matata o le gaosiga tele faʻapisinisi. Faatasi ai ma le atinaʻeina atili o le saienisi ma tekinolosi, i tausaga talu ai nei i le matata o le ufiufi sputtering ma le faʻalauiloaina o le ion beam e faʻaleleia atili ai le sputtering, o le faʻaaogaina o se ave lautele o le malosi o le ion source faʻatasi ai ma le magnetic field modulation, ma le tuʻufaʻatasia o le dipole sputtering masani e aofia ai se faiga fou o le sputtering; ma o le a avea ma faʻalauiloaina o le sapalai eletise fesuiaʻi-taimi i le magnetron sputtering target source. O lenei tekinolosi medium-frequency AC magnetron sputtering, e taʻua o le twin target sputtering, e le gata ina aveesea ai le aafiaga o le "mou ese" o le anode, ae foia ai foi le faʻafitauli o le "oona" o le cathode, lea e faʻaleleia atili ai le mautu o le magnetron sputtering, ma maua ai se faʻavae mautu mo le gaosiga faʻapisinisi o ata manifinifi tuʻufaʻatasi. O lenei mea ua faʻaleleia atili ai le mautu o le magnetron sputtering ma maua ai se faʻavae mautu mo le gaosiga faʻapisinisi o ata manifinifi tuʻufaʻatasi. I tausaga talu ai nei, o le sputtering coating ua avea ma se tekinolosi vevela o le sauniuniga o ata tifaga, o loʻo galue malosi i le matata o tekinolosi ufiufi vacuum.
–O lenei tusiga ua fa'asalalauina egaosi oloa masini ufiufi vacuumGuangdong Zhenhua
Taimi na lafoina ai: Tesema-05-2023