Hiện tượng bắn phá là quá trình các hạt năng lượng cao (thường là các ion dương của khí) va chạm vào bề mặt của chất rắn (gọi tắt là vật liệu đích), khiến các nguyên tử (hoặc phân tử) trên bề mặt vật liệu đích bị bắn phá ra.
Hiện tượng này được Grove phát hiện vào năm 1842 khi vật liệu catốt di chuyển đến thành ống chân không trong một thí nghiệm nghiên cứu ăn mòn catốt. Phương pháp lắng đọng màng mỏng bằng phương pháp phún xạ trên chất nền được phát hiện vào năm 1877. Tuy nhiên, do tốc độ phún xạ thấp, tốc độ tạo màng chậm, cần phải thiết lập thiết bị áp suất cao và dẫn khí hiệu dụng cùng một loạt vấn đề khác, nên sự phát triển rất chậm và gần như bị loại bỏ. Phương pháp này chỉ được ứng dụng trên một số ít kim loại quý có tính phản ứng hóa học cao, kim loại chịu nhiệt, chất điện môi và các hợp chất hóa học. Cho đến những năm 1970, nhờ sự xuất hiện của công nghệ phún xạ magnetron, phương pháp phủ phún xạ đã phát triển nhanh chóng và bắt đầu hồi sinh. Điều này là do phương pháp lắng đọng phún xạ magnetron có thể hạn chế các electron bằng trường điện từ vuông góc, làm tăng xác suất va chạm giữa các electron và các phân tử khí, không chỉ làm giảm điện áp thêm vào catốt mà còn cải thiện tốc độ phún xạ các ion dương trên catốt mục tiêu, giảm xác suất bắn phá của electron trên chất nền, từ đó giảm nhiệt độ của nó, với hai đặc điểm chính là “tốc độ cao, nhiệt độ thấp”.
Đến những năm 1980, mặc dù chỉ xuất hiện khoảng chục năm sau đó, công nghệ này đã nổi bật từ phòng thí nghiệm, thực sự bước vào lĩnh vực sản xuất hàng loạt công nghiệp. Với sự phát triển hơn nữa của khoa học và công nghệ, trong những năm gần đây trong lĩnh vực phủ màng bằng phương pháp phún xạ và sự ra đời của phương pháp phún xạ tăng cường bằng chùm ion, việc sử dụng nguồn ion dòng điện mạnh chùm tia rộng kết hợp với điều chế từ trường, và kết hợp với phương pháp phún xạ lưỡng cực thông thường tạo thành một chế độ phún xạ mới; và sẽ là sự ra đời của nguồn điện xoay chiều tần số trung bình cho nguồn bia phún xạ magnetron. Công nghệ phún xạ magnetron xoay chiều tần số trung bình này, được gọi là phún xạ bia kép, không chỉ loại bỏ hiệu ứng “biến mất” của cực dương mà còn giải quyết vấn đề “nhiễm độc” của cực âm, giúp cải thiện đáng kể độ ổn định của quá trình phún xạ magnetron và tạo nền tảng vững chắc cho sản xuất công nghiệp các màng mỏng phức hợp. Điều này đã cải thiện đáng kể độ ổn định của quá trình phún xạ magnetron và cung cấp nền tảng vững chắc cho sản xuất công nghiệp các màng mỏng phức hợp. Trong những năm gần đây, phương pháp phủ màng bằng phương pháp phún xạ đã trở thành một công nghệ chế tạo màng mới nổi đầy triển vọng, được ứng dụng tích cực trong lĩnh vực công nghệ phủ màng chân không.
–Bài viết này được phát hành bởiNhà sản xuất máy phủ chân khôngQuảng Đông Chấn Hoa
Thời gian đăng bài: 05/12/2023