Ion tan ina sputtering bo ati dẹlẹ tan ina etching

1. Ion tan ina sputtering bo

Ilẹ ti awọn ohun elo ti wa ni bombarded pẹlu kan alabọde-agbara ion tan ina, ati awọn agbara ti awọn ions ko ba tẹ awọn gara latissi ti awọn ohun elo, ṣugbọn gbigbe awọn agbara si awọn afojusun awọn ọta, nfa wọn sputter kuro lati awọn dada ti awọn ohun elo, ati ki o si dagba kan tinrin fiimu nipa iwadi oro lori workpiece. Nitori sputtering ti a ṣe nipasẹ ion beam, agbara ti awọn ọta Layer fiimu sputtered ga pupọ, ati pe ohun elo ibi-afẹde ti wa ni bombarded pẹlu ina ion ni igbale giga, mimọ ti Layer fiimu jẹ giga, ati awọn fiimu ti o ga julọ le wa ni ifipamọ, lakoko ti iduroṣinṣin ti ion tan ina fiimu Layer ti ni ilọsiwaju, eyiti o le ṣaṣeyọri idi ti awọn ohun-ini fiimu ti imudarasi Layer opitika. Idi ti ion beam sputtering ni lati ṣẹda awọn ohun elo fiimu tinrin tuntun.

2. Ion tan ina etching

Ion tan ina etching tun jẹ alabọde-agbara ion tan ina bombardment ti awọn dada ti awọn ohun elo lati gbe awọn sputtering, etching ipa lori sobusitireti, jẹ a semikondokito ẹrọ, optoelectronic awọn ẹrọ ati awọn agbegbe miiran ti isejade ti eya mojuto imo. Imọ-ẹrọ igbaradi fun awọn eerun igi ni awọn iyika iṣọpọ semikondokito pẹlu igbaradi ti awọn miliọnu awọn transistors lori wafer ohun alumọni kan-crystal kan pẹlu iwọn ila opin ti Φ12in (Φ304.8mm). transistor kọọkan ni a ṣe lati awọn fẹlẹfẹlẹ pupọ ti awọn fiimu tinrin pẹlu awọn iṣẹ oriṣiriṣi, ti o ni Layer ti nṣiṣe lọwọ, Layer insulating, Layer ipinya, ati Layer conductive kan. Ipele iṣẹ-ṣiṣe kọọkan ni ilana ti ara rẹ, nitorinaa lẹhin ti ipele kọọkan ti fiimu ti iṣẹ-ṣiṣe ti wa ni palara, awọn ẹya ti ko wulo nilo lati yọ kuro pẹlu ina ion, nlọ awọn ohun elo fiimu ti o wulo. Lasiko yi, awọn waya iwọn ti awọn ërún ti de 7mm, ati ion tan ina etching jẹ pataki lati mura iru kan itanran Àpẹẹrẹ. Ion tan ina etching ni a gbẹ etching ọna pẹlu ga etching yiye akawe si awọn tutu etching ọna ti a lo ni ibẹrẹ.

Ion tan ina etching ọna ẹrọ pẹlu aiṣiṣẹ ion tan ina etching ati ti nṣiṣe lọwọ ion tan ina etching pẹlu iru meji. Awọn tele pẹlu argon ion tan ina etching, je ti si awọn ti ara lenu; igbehin pẹlu fluorine ion beam sputtering, fluorine ion beam ni afikun si agbara ti o ga lati ṣe ipa ipa ti tramp, fluorine ion beam le tun jẹ etched pẹlu SiO₂,Si₃N4, GaAs, W ati awọn fiimu tinrin miiran ni ifaseyin kemikali, o jẹ ilana iṣe iṣe ti ara, ṣugbọn tun ilana ifaseyin kemikali ti imọ-ẹrọ ion tan ina etching, oṣuwọn etching jẹ iyara. Ifesi etching ipata ategun ni o wa CF₄,C₂F₆CCl4,BCl₃, ati bẹbẹ lọ, awọn ifaseyin ti ipilẹṣẹ fun SiF₄,SiCl₄GCl₃;, ati WF₆ ti wa ni ipata ategun ti wa ni jade. Imọ-ẹrọ etching Ion beam jẹ imọ-ẹrọ bọtini lati ṣe agbejade awọn ọja imọ-ẹrọ giga.

-Nkan yii ti tu silẹ nipasẹigbale ti a bo ẹrọ olupeseGuangdong Zhenhua