Ion nurlari bilan purkash qoplamasi va ion nurlari bilan ishlov berish

1. Ion nurlarini sochuvchi qoplama

Materialning yuzasi o'rta energiyali ion nurlari bilan bombardimon qilinadi va ionlarning energiyasi materialning kristall panjarasiga kirmaydi, balki energiyani maqsadli atomlarga o'tkazadi, bu esa materialning sirtidan uzoqlashishiga olib keladi va keyin ishlov beriladigan qismga cho'kish orqali yupqa plyonka hosil qiladi. Ion nurlari tomonidan ishlab chiqarilgan püskürtme tufayli, püskürtülmüş plyonka qatlami atomlarining energiyasi juda yuqori va maqsadli material yuqori vakuumda ion nurlari bilan bombardimon qilinadi, plyonka qatlamining tozaligi yuqori va yuqori sifatli plyonkalar yotqizilishi mumkin, shu bilan birga ion nurlari plyonka qatlamining barqarorligi yaxshilanadi, bu esa plyonka qatlamining optik va mexanik xususiyatlarining maqsadiga erishishi mumkin. Ion nurlarini sochishning maqsadi yangi yupqa plyonkali materiallarni hosil qilishdir.

2. Ion nurlari bilan qirqish

Ion nurlari bilan ishlov berish, shuningdek, materialning sirtini o'rta energiyali ion nurlari bilan bombardimon qilish bo'lib, substratga püskürtme ta'sirini hosil qiladi, yarimo'tkazgichli qurilma, optoelektronik qurilmalar va grafik yadro texnologiyasini ishlab chiqarishning boshqa sohalari hisoblanadi. Yarimo'tkazgichli integral mikrosxemalardagi chiplarni tayyorlash texnologiyasi PH12 dyuym (PH304,8 mm) diametrli bir kristalli kremniy gofretda millionlab tranzistorlarni tayyorlashni o'z ichiga oladi. Har bir tranzistor faol qatlam, izolyatsion qatlam, izolyatsiya qatlami va o'tkazuvchan qatlamdan iborat turli funktsiyalarga ega bo'lgan bir necha qatlamli yupqa plyonkalardan qurilgan. Har bir funktsional qatlamning o'ziga xos naqshlari bor, shuning uchun har bir funktsional plyonka qatlami qoplangandan so'ng, foydasiz qismlarni ion nurlari bilan o'yib, foydali plyonka komponentlarini buzilmasdan qoldirish kerak. Hozirgi vaqtda chipning sim kengligi 7 mm ga yetdi va bunday nozik naqshni tayyorlash uchun ion nurlari bilan ishlov berish kerak. Ion nurlari bilan ishlov berish - bu boshida qo'llanilgan ho'l ishlov berish usuliga nisbatan yuqori aniqlikdagi quruq qirqish usuli.

Faol bo'lmagan ion nurlari bilan ion nurlari bilan ishlov berish texnologiyasi va ikki turdagi faol ion nurlari bilan ishlov berish. Birinchisi argon ion nurlari bilan ishlangan, jismoniy reaktsiyaga tegishli; ikkinchisi ftor ion nurlari bilan püskürtülür, ftor ion nurlari yuqori energiyaga qo'shimcha ravishda tramp rolini ishlab chiqarish uchun, ftor ion nurlari ham SiO bilan ishlangan bo'lishi mumkin.₂、Si₃N4 、 GaAs 、 W va boshqa yupqa plyonkalar kimyoviy reaktsiyaga ega, bu ham jismoniy reaktsiya jarayoni, balki ion nurlari bilan ishlov berish texnologiyasining kimyoviy reaktsiyasi jarayonidir, aşındırma tezligi tezdir. Reaktsiyali aşındırıcı korroziv gazlar CF hisoblanadi₄、C₂F₆、CCl4、BCl₃va boshqalar, SiF uchun hosil bo'lgan reaktivlar₄、SiCl₄、GCl₃;、va WF₆ korroziy gazlar olinadi. Ion nurlari bilan ishlov berish texnologiyasi yuqori texnologiyali mahsulotlarni ishlab chiqarishning asosiy texnologiyasidir.

- Ushbu maqola nashr etilganvakuumli qoplama mashinasi ishlab chiqaruvchisiGuangdong Chjenxua