Teknologjia e Depozitimit Kimik të Avujve (CVD) është një teknologji e formimit të filmit që përdor ngrohjen, përmirësimin e plazmës, foto-ndihmës dhe mjete të tjera për të bërë që substancat e gazta të prodhojnë filma të ngurtë në sipërfaqen e substratit nëpërmjet reaksionit kimik nën presion normal ose të ulët.
Në përgjithësi, reaksioni në të cilin reaktanti është gaz dhe një nga produktet është i ngurtë quhet reaksion CVD. Ekzistojnë shumë lloje veshjesh të përgatitura nga reaksioni CVD, veçanërisht në procesin e gjysmëpërçuesve. Për shembull, në fushën e gjysmëpërçuesve, rafinimi i lëndëve të para, përgatitja e filmave monokristalë gjysmëpërçues me cilësi të lartë dhe rritja e filmave polikristalin dhe amorf, nga pajisjet elektronike te qarqet e integruara, të gjitha lidhen me teknologjinë CVD. Përveç kësaj, trajtimi sipërfaqësor i materialeve është i preferuar nga njerëzit. Për shembull, materiale të ndryshme si makineritë, reaktorët, hapësirat ajrore, pajisjet mjekësore dhe kimike mund të përdoren për të përgatitur veshje funksionale me rezistencë ndaj korrozionit, rezistencë ndaj nxehtësisë, rezistencë ndaj konsumimit dhe forcim sipërfaqësor me metodën e formimit të filmit CVD sipas kërkesave të tyre të ndryshme.
—— Ky artikull është botuar nga Guangdong Zhenhua, një prodhues ipajisje për veshjen me vakum
Koha e postimit: 04 Mars 2023