(3) Radio Frequency Plasma CVD (RFCVD) E mafai ona fa'aaogaina le RF e fa'atupu ai le plasma i ni auala se lua eseese, o le metotia o le capacitive coupling ma le metotia o le inductive coupling. O le RF plasma CVD e fa'aaogaina le frequency o le 13.56 MHz. O le lelei o le RF plasma o lona sosolo atu lea i se vaega tele atu nai lo le microwave plasma. Peita'i, o le tapula'a o le RF capacitively coupled plasma o le le lelei o le frequency o le plasma mo le sputtering, aemaise lava pe afai o lo'o iai le argon i le plasma. O le capacitively coupled plasma e le talafeagai mo le totoina o ata taimane maualuga ona o le fa'aosoina o le ion mai le plasma e mafai ona o'o atu ai i le fa'aleagaina tele o le taimane. O ata taimane polycrystalline ua totoina e fa'aaoga ai le RF induced plasma i lalo o tulaga fa'aputuga e tutusa ma le microwave plasma CVD. O ata taimane homogeneous epitaxial ua maua fo'i e fa'aaoga ai le RF-induced plasma-enhanced CVD.
(4) DC Plasma CVD
O le DC plasma o se isi metotia e faʻagaoioia ai se puna o le kesi (e masani lava o se faʻafefiloi o le H2, ma le kesi hydrocarbon) mo le tuputupu aʻe o le ata taimane. O le DC plasma-assisted CVD e iai le gafatia e faʻatupulaʻia ai vaega tetele o ata taimane, ma o le tele o le vaega tuputupu aʻe e gata i le tele o electrodes ma le sapalai eletise DC. O le isi lelei o le DC plasma-assisted CVD o le fausiaina lea o se tui DC, ma o ata taimane masani e maua mai i lenei faiga e teuina i le fua faatatau o le 80 mm/h. E le gata i lea, talu ai o auala eseese o le DC arc e mafai ona teuina ata taimane maualuga i luga o mea e le o ni taimane i fua faatatau maualuga o le teuina, latou te maua ai se metotia maketi mo le teuina o ata taimane.
(5) Electron cyclotron resonance microwave plasma enhanced chemical vapor deposition (ECR-MPECVD) O le DC plasma, RF plasma, ma le microwave plasma na faʻamatalaina muamua e vavaeʻese ma faʻaleagaina uma le H2, poʻo hydrocarbons, i totonu o vaega o le atomic hydrogen ma le carbon-hydrogen atom, ma fesoasoani ai i le fausiaina o ata manifinifi o taimane. Talu ai e mafai e le electron cyclotron resonance plasma ona gaosia le plasma maualuga le mafiafia (>1x1011cm-3), e sili atu le talafeagai o le ECR-MPECVD mo le tuputupu aʻe ma le faʻaputuina o ata taimane. Peitaʻi, ona o le maualalo o le mamafa o le kesi (10-4- i le 10-2 Torr) e faʻaaogaina i le faiga o le ECR, lea e mafua ai le maualalo o le fua faatatau o le faʻaputuina o ata taimane, o le metotia i le taimi nei e naʻo le talafeagai mo le faʻaputuina o ata taimane i totonu o le fale suʻesuʻe.
–O lenei tusiga ua fa'asalalauina e le kamupani gaosi masini ufiufi efuefu o Guangdong Zhenhua
Taimi na lafoina ai: Iuni-19-2024