(3) 무선 주파수 플라즈마 CVD(RFCVD) RF는 정전 용량 결합 방식과 유도 결합 방식, 두 가지 다른 방법으로 플라즈마를 생성하는 데 사용할 수 있습니다. RF 플라즈마 CVD는 13.56MHz의 주파수를 사용합니다. RF 플라즈마의 장점은 마이크로파 플라즈마보다 훨씬 넓은 영역에 확산된다는 것입니다. 그러나 RF 정전 용량 결합 플라즈마의 한계는 플라즈마 주파수가 스퍼터링에 최적화되지 않았다는 점이며, 특히 플라즈마에 아르곤이 포함된 경우 더욱 그렇습니다. 정전 용량 결합 플라즈마는 플라즈마로부터의 이온 충격이 다이아몬드에 심각한 손상을 초래할 수 있으므로 고품질 다이아몬드 박막을 성장시키는 데 적합하지 않습니다. 다결정 다이아몬드 박막은 마이크로파 플라즈마 CVD와 유사한 증착 조건에서 RF 유도 플라즈마를 사용하여 성장되었습니다. 또한 RF 유도 플라즈마 강화 CVD를 사용하여 균일한 에피택셜 다이아몬드 박막을 얻을 수 있습니다.
(4) DC 플라즈마 CVD
DC 플라즈마는 다이아몬드 박막 성장을 위한 가스 소스(일반적으로 H2와 탄화수소 가스의 혼합물)를 활성화하는 또 다른 방법입니다. DC 플라즈마 보조 CVD는 넓은 면적의 다이아몬드 박막을 성장시킬 수 있으며, 성장 영역의 크기는 전극의 크기와 DC 전원 공급 장치의 용량에 의해서만 제한됩니다. DC 플라즈마 보조 CVD의 또 다른 장점은 DC 주입이 가능하다는 점이며, 이 시스템으로 얻은 일반적인 다이아몬드 박막은 시간당 80mm의 증착 속도를 보입니다. 또한, 다양한 DC 아크 증착법은 비다이아몬드 기판 위에 고품질 다이아몬드 박막을 높은 증착 속도로 증착할 수 있기 때문에 다이아몬드 박막 증착을 위한 상용화 가능한 방법을 제공합니다.
(5) 전자 사이클로트론 공명 마이크로파 플라즈마 강화 화학 기상 증착(ECR-MPECVD) 앞서 설명한 DC 플라즈마, RF 플라즈마 및 마이크로파 플라즈마는 모두 H2 또는 탄화수소를 원자 수소 및 탄소-수소 원자 그룹으로 분해하여 다이아몬드 박막 형성에 기여합니다. 전자 사이클로트론 공명 플라즈마는 고밀도 플라즈마(>1x10¹¹cm⁻³)를 생성할 수 있으므로 ECR-MPECVD는 다이아몬드 박막의 성장 및 증착에 더 적합합니다. 그러나 ECR 공정에서 사용되는 낮은 가스 압력(10⁻⁴~10⁻² Torr)으로 인해 다이아몬드 박막의 증착 속도가 낮아 현재 이 방법은 실험실에서 다이아몬드 박막을 증착하는 데에만 적합합니다.
이 기사는 진공 코팅기 제조업체인 광둥전화(Guangdong Zhenhua)에서 발표했습니다.
게시 시간: 2024년 6월 19일