Rozpylanie to zjawisko, w którym cząstki o dużej energii (zwykle dodatnie jony gazów) uderzają w powierzchnię ciała stałego (nazywanego dalej materiałem docelowym), powodując ucieczkę atomów (lub cząsteczek) znajdujących się na powierzchni materiału docelowego.
Zjawisko to zostało odkryte przez Grove'a w 1842 r., gdy materiał katody został przeniesiony na ścianę lampy próżniowej podczas eksperymentu w celu zbadania korozji katodowej. Ta metoda rozpylania w osadzeniu cienkich warstw podłoża została odkryta w 1877 r., ze względu na stosowanie tej metody osadzania cienkich warstw we wczesnych etapach szybkości rozpylania jest niska, powolna prędkość filmu, musi być ustawiona w urządzeniu wysokiego ciśnienia i przechodzić do gazu afektywnego i innych szereg problemów, więc rozwój jest bardzo powolny i prawie wyeliminowany, tylko w chemicznie reaktywnych metalach szlachetnych, metalach ogniotrwałych, dielektrykach i związkach chemicznych, materiałach na niewielką liczbę zastosowań. Do lat 70., ze względu na pojawienie się technologii rozpylania magnetronowego, powłoka rozpylana była szybko rozwijana, zaczęła wchodzić w odrodzenie drogi. Dzieje się tak, ponieważ metodę rozpylania magnetronowego można ograniczyć ortogonalnym polem elektromagnetycznym na elektronach, zwiększając prawdopodobieństwo zderzenia elektronów i cząsteczek gazu, nie tylko zmniejszając napięcie dodawane do katody, ale także poprawiając szybkość rozpylania jonów dodatnich na katodzie docelowej, zmniejszając prawdopodobieństwo bombardowania podłoża elektronami, a tym samym obniżając jego temperaturę, przy „dużej prędkości i niskiej temperaturze”. Dwie główne cechy „dużej prędkości i niskiej temperatury”.
Do lat 80., chociaż pojawiło się zaledwie kilkanaście lat temu, wyróżnia się z laboratorium, naprawdę w dziedzinie przemysłowej produkcji masowej. Wraz z dalszym rozwojem nauki i technologii, w ostatnich latach w dziedzinie powłok rozpylanych i wprowadzeniem rozpylania wzmocnionego wiązką jonów, wykorzystaniem szerokiej wiązki silnego źródła jonów prądu w połączeniu z modulacją pola magnetycznego oraz z połączeniem konwencjonalnego rozpylania dipolowego złożonego z nowego trybu rozpylania; i będzie wprowadzeniem zasilania prądem przemiennym o średniej częstotliwości do źródła tarczy rozpylania magnetronowego. Ta technologia rozpylania magnetronowego AC o średniej częstotliwości, zwana rozpylaniem z podwójnym celem, nie tylko eliminuje efekt „znikania” anody, ale także rozwiązuje problem „zatrucia” katody, co znacznie poprawia stabilność rozpylania magnetronowego i zapewnia solidne podstawy dla przemysłowej produkcji złożonych cienkich warstw. To znacznie poprawiło stabilność rozpylania magnetronowego i zapewniło solidne podstawy dla przemysłowej produkcji złożonych cienkich warstw. W ostatnich latach natryskiwanie powłok stało się nową, rozwijającą się technologią przygotowywania powłok, sprawdzającą się w dziedzinie technologii powlekania próżniowego.
– Artykuł ten został opublikowany przezproducent maszyn do powlekania próżniowegoGuangdong Zhenhua
Czas publikacji: 05-12-2023