(3) CVD tal-Plażma bil-Frekwenza tar-Radju (RFCVD) L-RF jista' jintuża biex jiġġenera l-plażma b'żewġ metodi differenti, il-metodu ta' akkoppjar kapaċittiv u l-metodu ta' akkoppjar induttiv. Is-CVD tal-plażma RF juża frekwenza ta' 13.56 MHz. Il-vantaġġ tal-plażma RF huwa li tinfirex fuq żona ħafna akbar mill-plażma tal-microwave. Madankollu, il-limitazzjoni tal-plażma akkoppjata b'mod kapaċittiv RF hija li l-frekwenza tal-plażma mhijiex ottimali għall-isputtering, speċjalment jekk il-plażma fiha argon. Il-plażma akkoppjata b'mod kapaċittiv mhijiex adattata għat-tkabbir ta' films tad-djamanti ta' kwalità għolja peress li l-bumbardament tal-joni mill-plażma jista' jwassal għal ħsara severa lid-djamant. Films tad-djamanti polikristallini ġew imkabbra bl-użu ta' plażma indotta minn RF taħt kundizzjonijiet ta' depożizzjoni simili għas-CVD tal-plażma tal-microwave. Films tad-djamanti epitassjali omoġenji nkisbu wkoll bl-użu ta' CVD imtejjeb bil-plażma indotta minn RF.
(4) CVD tal-Plażma DC
Il-plażma DC hija metodu ieħor biex tiġi attivata sors ta' gass (ġeneralment taħlita ta' H2, u gass idrokarburiku) għat-tkabbir tal-film tad-djamanti. Is-CVD assistita mill-plażma DC għandha l-abbiltà li tkabbar żoni kbar ta' films tad-djamanti, u d-daqs taż-żona tat-tkabbir huwa limitat biss mid-daqs tal-elettrodi u l-provvista tal-enerġija DC. Vantaġġ ieħor tas-CVD assistita mill-plażma DC huwa l-formazzjoni ta' injezzjoni DC, u films tad-djamanti tipiċi miksuba b'din is-sistema jiġu depożitati b'rata ta' 80 mm/siegħa. Barra minn hekk, peress li diversi metodi ta' ark DC jistgħu jiddepożitaw films tad-djamanti ta' kwalità għolja fuq sottostrati mhux tad-djamanti b'rati għoljin ta' depożizzjoni, dawn jipprovdu metodu kummerċjabbli għad-depożizzjoni ta' films tad-djamanti.
(5) Depożizzjoni kimika tal-fwar imsaħħa bil-plażma tal-microwave b'reżonanza taċ-ċiklotron tal-elettroni (ECR-MPECVD) Il-plażma DC, il-plażma RF, u l-plażma tal-microwave deskritti qabel kollha jiddissoċjaw u jiddekomponu l-H2, jew l-idrokarburi, fi gruppi ta' atomi ta' idroġenu atomiku u karbonju-idroġenu, u b'hekk jikkontribwixxu għall-formazzjoni ta' films irqaq tad-djamanti. Peress li l-plażma tar-reżonanza taċ-ċiklotron tal-elettroni tista' tipproduċi plażma ta' densità għolja (>1x1011cm-3), l-ECR-MPECVD hija aktar adattata għat-tkabbir u d-depożizzjoni ta' films tad-djamanti. Madankollu, minħabba l-pressjoni baxxa tal-gass (10-4- sa 10-2 Torr) użata fil-proċess tal-ECR, li tirriżulta f'rata baxxa ta' depożizzjoni ta' films tad-djamanti, il-metodu bħalissa huwa adattat biss għad-depożizzjoni ta' films tad-djamanti fil-laboratorju.
–Dan l-artiklu huwa rilaxxat mill-manifattur tal-magna tal-kisi bil-vakwu Guangdong Zhenhua
Ħin tal-posta: 19 ta' Ġunju 2024