Elemen Proses dan Mekanisme Tindakan yang Mempengaruhi Kualiti Peranti Filem Nipis (Bahagian 2)

3. Pengaruh suhu substrat

Suhu substrat merupakan salah satu syarat penting untuk pertumbuhan membran. Ia menyediakan tenaga tambahan kepada atom atau molekul membran, dan terutamanya mempengaruhi struktur membran, pekali aglutinasi, pekali pengembangan dan ketumpatan pengagregatan. Pantulan makroskopik dalam indeks biasan filem, penyerakan, tegasan, lekatan, kekerasan dan ketaklarutan akan sangat berbeza disebabkan oleh suhu substrat yang berbeza.

(1) Substrat sejuk: biasanya digunakan untuk penyejatan filem logam.

(2) Kelebihan suhu tinggi:

① Molekul gas sisa yang terserap pada permukaan substrat dikeluarkan untuk meningkatkan daya pengikatan antara substrat dan molekul yang termendap;

(2) Menggalakkan transformasi penjerapan fizikal kepada kemisorpsi lapisan filem, meningkatkan interaksi antara molekul, menjadikan filem ketat, meningkatkan lekatan dan meningkatkan kekuatan mekanikal;

③ Kurangkan perbezaan antara suhu penghabluran semula molekul wap dan suhu substrat, tingkatkan ketumpatan lapisan filem, tingkatkan kekerasan lapisan filem untuk menghapuskan tekanan dalaman.

(3) Kelemahan suhu yang terlalu tinggi: struktur lapisan filem berubah atau bahan filem terurai.

4. Kesan pengeboman ion

Pengeboman selepas penyaduran: meningkatkan ketumpatan pengagregatan filem, meningkatkan tindak balas kimia, meningkatkan indeks biasan filem oksida, kekuatan dan rintangan mekanikal serta lekatan. Ambang kerosakan cahaya meningkat.
5. Pengaruh bahan substrat

(1) Pekali pengembangan bahan substrat yang berbeza akan menyebabkan tekanan haba filem yang berbeza;

(2) Afiniti kimia yang berbeza akan mempengaruhi lekatan dan ketegasan filem;

(3) Kekasaran dan kecacatan substrat merupakan sumber utama penyebaran filem nipis.
6. Kesan pembersihan substrat

Sisa kotoran dan detergen pada permukaan substrat akan menyebabkan: (1) lekatan filem yang lemah pada substrat; ② Penyerapan penyebaran meningkat, keupayaan anti-laser adalah lemah; ③ Prestasi penghantaran cahaya yang lemah.

Komposisi kimia (jenis ketulenan dan bendasing), keadaan fizikal (serbuk atau blok), dan prarawatan (sintering vakum atau tempaan) bahan filem akan mempengaruhi struktur dan prestasi filem.

8. Pengaruh kaedah penyejatan

Tenaga kinetik awal yang disediakan oleh kaedah penyejatan yang berbeza untuk mengewapkan molekul dan atom adalah sangat berbeza, menghasilkan perbezaan yang besar dalam struktur filem, yang ditunjukkan sebagai perbezaan dalam indeks biasan, penyerakan dan lekatan.

9. Pengaruh Sudut Kejadian Wap

Sudut kejadian wap merujuk kepada Sudut antara arah sinaran molekul wap dan normal permukaan substrat bersalut, yang mempengaruhi ciri pertumbuhan dan ketumpatan pengagregatan filem, dan mempunyai pengaruh yang besar terhadap indeks biasan dan ciri-ciri penyebaran filem. Untuk mendapatkan filem berkualiti tinggi, adalah perlu untuk mengawal Sudut pancaran manusia molekul wap bahan filem, yang secara amnya harus dihadkan kepada 30°.

10. Kesan rawatan penaik

Rawatan haba filem di atmosfera adalah kondusif untuk pembebasan tekanan dan penghijrahan haba molekul gas ambien dan molekul filem, dan boleh membentuk struktur penggabungan semula filem, jadi ia mempunyai pengaruh yang besar terhadap indeks biasan, tekanan dan kekerasan filem.