Proses pemanasan bahan pepejal dalam persekitaran vakum tinggi untuk menyejukkan atau meruap dan memendapkannya pada substrat tertentu untuk mendapatkan filem nipis dikenali sebagai salutan penyejatan vakum (dirujuk sebagai salutan penyejatan).
Sejarah penyediaan filem nipis melalui proses penyejatan vakum boleh dikesan kembali ke tahun 1850-an. Pada tahun 1857, M. Farrar memulakan percubaan salutan vakum dengan menyejatkan wayar logam dalam nitrogen untuk membentuk filem nipis. Disebabkan teknologi vakum yang rendah pada masa itu, penyediaan filem nipis dengan cara ini sangat memakan masa dan tidak praktikal. Sehingga tahun 1930 pam resapan minyak sistem pam sambungan pam mekanikal telah diwujudkan, teknologi vakum boleh berkembang pesat, hanya untuk menjadikan salutan penyejatan dan percikan menjadi teknologi yang praktikal.
Walaupun penyejatan vakum merupakan teknologi pemendapan filem nipis purba, ia merupakan kaedah yang paling biasa digunakan di kawasan makmal dan perindustrian. Kelebihan utamanya ialah operasi yang mudah, kawalan parameter pemendapan yang mudah dan ketulenan filem yang terhasil yang tinggi. Proses salutan vakum boleh dibahagikan kepada tiga langkah berikut.
1) bahan sumber dipanaskan dan dicairkan untuk meruap atau menyejukkan; 2) wap dikeluarkan dari bahan sumber untuk meruap atau menyejukkan.
2) Wap dipindahkan dari bahan sumber ke substrat.
3) Wap mengembun pada permukaan substrat untuk membentuk filem pepejal.
Penyejatan vakum filem nipis, secara amnya filem polikristalin atau filem amorfus, pertumbuhan filem ke pulau adalah dominan, melalui dua proses nukleasi dan filem. Atom (atau molekul) yang tersejat berlanggar dengan substrat, sebahagian daripada pelekatan kekal pada substrat, sebahagian daripada penjerapan dan kemudian tersejat dari substrat, dan sebahagian daripada pantulan langsung kembali dari permukaan substrat. Lekatan pada permukaan substrat atom (atau molekul) akibat pergerakan haba boleh bergerak di sepanjang permukaan, seperti menyentuh atom lain akan terkumpul menjadi kelompok. Kelompok kemungkinan besar berlaku di tempat tekanan pada permukaan substrat tinggi, atau pada langkah pelarutan substrat kristal, kerana ini meminimumkan tenaga bebas atom yang terserap. Ini adalah proses nukleasi. Pemendapan atom (molekul) selanjutnya mengakibatkan pengembangan kelompok (nukleus) berbentuk pulau yang dinyatakan di atas sehingga ia dilanjutkan menjadi filem berterusan. Oleh itu, struktur dan sifat filem polikristalin yang tersejat vakum berkait rapat dengan kadar penyejatan dan suhu substrat. Secara amnya, semakin rendah suhu substrat, semakin tinggi kadar penyejatan, semakin halus dan padat butiran filem.
–Artikel ini dikeluarkan olehpengeluar mesin salutan vakumGuangdong Zhenhua
Masa siaran: 23 Mac 2024