(3) Depositio vaporum per plasmam radiofrequentiae (CVD per plasmam radiofrequentiae) RF ad plasmam generandum duabus methodis diversis adhiberi potest, methodo copulationis capacitivae et methodo copulationis inductivae. CVD plasmatis radiofrequentiae frequentiam 13.56 MHz utitur. Commodum plasmatis radiofrequentiae est quod per aream multo maiorem quam plasma microfluctuum diffunditur. Attamen, limitatio plasmatis radiofrequentiae capacitive copulati est quod frequentia plasmatis non est optima ad pulverizationem cathodicam, praesertim si plasma argon continet. Plasma capacitive copulatum non aptum est ad pelliculas adamantinas altae qualitatis crescendas, quia bombardamentum ionicum a plasmate ad grave damnum adamantino ducere potest. Pelliculae adamantinae polycrystallinae utens plasmate RF inducto sub condicionibus depositionis similibus CVD plasmatis microfluctuum creverunt. Pelliculae adamantinae epitaxiales homogeneae etiam utens CVD plasmate RF inducto et aucto obtentae sunt.
(4) CVD Plasma DC
Plasma DC est alia methodus activandi fontem gasis (plerumque mixturam H2 et gasis hydrocarbonici) ad accretionem pelliculae adamantinae. CVD plasma DC adiuvata facultatem habet magnas areas pellicularum adamantinarum crescendi, et magnitudo areae accretionis solum magnitudine electrodorum et fonte potentiae DC limitatur. Aliud commodum CVD plasma DC adiuvatae est formatio injectionis DC, et pelliculae adamantinae typicae hoc systemate obtentae deponuntur celeritate 80 mm/h. Praeterea, cum variae methodi arcus DC pelliculas adamantinas altae qualitatis in substratis non adamantinis celeritatibus depositionis altis deponere possint, methodum vendibilem ad depositionem pellicularum adamantinarum praebent.
(5) Depositio chemica vaporis aucta per plasmam microfluctuum resonantiae cyclotronis electronicae (ECR-MPECVD). Plasma DC, plasma RF, et plasma microfluctuum antea descriptum omnia H2, sive hydrocarbona, in hydrogenium atomicum et greges atomorum carbonii-hydrogenii dissociant et decomponunt, ita ad formationem pellicularum tenuium adamantinarum conferentes. Cum plasma resonantiae cyclotronis electronicae plasmam altae densitatis (>1x10^11cm-3) producere possit, ECR-MPECVD aptior est ad accretionem et depositionem pellicularum adamantinarum. Attamen, propter pressionem gasis humilem (10-4 ad 10-2 Torr) in processu ECR adhibitam, quae in rata depositionis pellicularum adamantinarum humile resultat, methodus nunc tantum apta est ad depositionem pellicularum adamantinarum in laboratorio.
–Hic articulus a fabricatore machinarum ad obducendum vacuum Guangdong Zhenhua divulgatus est.
Tempus publicationis: Iun-XIX-MMXXIV