(3) 무선 주파수 플라즈마 CVD(RFCVD) RF는 용량성 결합법과 유도성 결합법의 두 가지 방법으로 플라즈마를 생성하는 데 사용할 수 있습니다. RF 플라즈마 CVD는 13.56MHz의 주파수를 사용합니다. RF 플라즈마의 장점은 마이크로파 플라즈마보다 훨씬 더 넓은 영역으로 확산된다는 것입니다. 그러나 RF 용량성 결합 플라즈마의 한계는 플라즈마 주파수가 스퍼터링에 최적화되지 않았다는 것입니다. 특히 플라즈마에 아르곤이 포함된 경우 더욱 그렇습니다. 용량성 결합 플라즈마는 플라즈마의 이온 충격으로 인해 다이아몬드가 심각하게 손상될 수 있으므로 고품질 다이아몬드 박막을 성장시키는 데 적합하지 않습니다. 다결정 다이아몬드 박막은 마이크로파 플라즈마 CVD와 유사한 증착 조건에서 RF 유도 플라즈마를 사용하여 성장되었습니다. 균질한 에피택셜 다이아몬드 박막은 RF 유도 플라즈마 강화 CVD를 사용하여도 얻어졌습니다.
(4) DC 플라즈마 CVD
DC 플라즈마는 다이아몬드 박막 성장을 위해 가스원(일반적으로 수소와 탄화수소 가스의 혼합물)을 활성화하는 또 다른 방법입니다. DC 플라즈마 보조 CVD는 넓은 면적의 다이아몬드 박막을 성장시킬 수 있으며, 성장 영역의 크기는 전극 크기와 DC 전원 공급 장치에 의해서만 제한됩니다. DC 플라즈마 보조 CVD의 또 다른 장점은 DC 주입을 형성한다는 점이며, 이 시스템으로 얻은 일반적인 다이아몬드 박막은 시간당 80mm의 속도로 증착됩니다. 또한, 다양한 DC 아크 방식을 통해 다이아몬드가 아닌 기판에도 높은 증착 속도로 고품질 다이아몬드 박막을 증착할 수 있으므로, 다이아몬드 박막 증착에 있어 시장성 있는 방법을 제공합니다.
(5) 전자 사이클로트론 공명 마이크로파 플라즈마 강화 화학 기상 증착(ECR-MPECVD) 앞서 설명한 직류 플라즈마, 고주파 플라즈마, 마이크로파 플라즈마는 모두 수소(H₂) 또는 탄화수소를 수소 원자와 탄소-수소 원자 그룹으로 분해하여 다이아몬드 박막 형성에 기여합니다. 전자 사이클로트론 공명 플라즈마는 고밀도 플라즈마(>1x10⁻¹cm⁻³)를 생성할 수 있으므로, ECR-MPECVD는 다이아몬드 박막의 성장 및 증착에 더 적합합니다. 그러나 ECR 공정에서 사용되는 낮은 가스 압력(10⁻¹~10⁻¹ Torr)으로 인해 다이아몬드 박막의 증착 속도가 낮아지므로, 현재 이 방법은 실험실에서의 다이아몬드 박막 증착에만 적합합니다.
– 본 기사는 진공 코팅기 제조업체인 광동진화(Guangdong Zhenhua)에서 발행한 것입니다.
게시 시간: 2024년 6월 19일